アメリカ特許法の大改正に伴う留意点　（4月18日東京）

2011年9月16日にオバマ大統領により署名されたリーヒ・スミス米国発明法案により、長年にわたって議論されてきた米国特許法の大改正が遂に実現されました。
この法案により改正された事項は多岐にわたるもので、その内容も複雑で、条文を見ただけではとても理解できないようなものとなっています。
今回は、これらの改正事項の中でも特に重要であると思われる先願主義への移行についてわかりやすく解説し、米国出願に際して日本の出願人として留意すべき事項、特に従来法から改正法へ移行する経過期間において留意すべき事項についてお話させていただきます。
是非、皆様のご参加をお待ちしております！

【プログラム】
１．アメリカ特許法の改正の概要
２．新規性
３．公表された発明であっても特許され得る場合
４．他人の出願の存在により特許されない場合
５．先に公表した者が特許を取得できる制度
６．改正法が適用される出願
７．日本の出願人として留意すべきこと

【本セミナーを受けていただきたい方】
●海外展開を考えていらっしゃる中小企業やベンチャー企業の経営者の方、管理者の方
●新製品の研究開発をされている中小企業やベンチャー企業の経営者の方、管理者の方
●企業の知的財産部や法務部で外国出願を担当されている方
●米国出願をする際に失敗をしたくない方
●米国特許制度について詳しく知りたい方
●特許事務所で外国出願を担当されている方

講師のプロフィール

日米両国のプロフェッショナルが貴社の大切な技術やアイデアを守ります

森 友宏

もり ともひろ ／ 東京都 ／ アペリオ国際特許事務所

米国法律事務所での勤務経験のある弁理士が豊富な経験と知識に基づきグローバルな知財サービスを提供いたします。
世界的なネットワークを使い、海外へのビジネス進出(起業)についてもお手伝いいたします。
このような時代だ...続きを読む

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開催日時


18:30 ～

受講料

7,000円（税込）/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※当日会場でお支払いいただき領収書をお渡しいたします

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