超臨界流体の半導体プロセス応用〜基礎から洗浄・薄膜まで〜

超臨界二酸化炭素流体の性質をわかりやすく解説!
また、半導体プロセス応用について、洗浄や薄膜処理を例に詳解

セミナー講師

山梨大学 工学部 教授 博士(工学) 近藤 英一 先生

略歴
・川崎製鐵(株)(現JFEスチール)入社 1987/04
・マックスプランク金属研究所 1995/04
・IMEC(ベルギー)研究員 1996/05
・山梨大学 助教授 2000/10
・山梨大学 教授 2007/11 現在に至る
専門
電気電子材料工学、化学工学、表面・薄膜技術
本テーマ関連学協会での活動
・応用物理学会フェロー、日本機械学会フェロー
・表面技術協会 理事(元)、他多数

セミナー受講料

1名47,300円(税込(消費税10%)、資料・昼食付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円
 *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。

セミナー趣旨

超臨界二酸化炭素流体は、ゼロ表面張力・無害・リサイクル可能という特長を有した夢の溶媒として注目を集めてきました。実際、食品・香料分野では広く実用化されており、染色などでも実用化が進んでいます。半導体プロセス応用については2000年前後に提案がありました。最近、最先端のメモリー製造で超臨界流体を利用していることが明らかになりました。ドライでもウェットでもだめな場合に出番のある、究極の流体であることは間違いありません。新しい技術の利用には地道な研究開発が必要であり、そのためには超臨界流体の性質をよく理解する必要があります。講師はアカデミアではいち早く超臨界二酸化炭素流体の半導体プロセス応用に着目し長年研究を行ってきました。
本セミナーでは、講師が執筆した「半導体・MEMSのための超臨界流体」をテキストに、気体や液体とは何が違うのか?という観点から、超臨界二酸化炭素流体の性質を説明します。さらに、半導体プロセス応用について、洗浄や薄膜処理を例として詳しく説明します。

セミナー資料として『半導体・MEMSのための超臨界流体』(コロナ社)を使用します。
当日会場にてお渡しいたします。※事前にご購入頂く必要はございません。

受講対象・レベル

・半導体デバイスメーカー、半導体製造装置メーカー、
 半導体材料(ガス、薬品、化成品)メーカーのエンジニアや研究者
・超臨界流体実験を始めたい研究者
・めっき、ドライ薄膜加工業界のエンジニアや研究者
・新規プロセス、代替プロセスで超臨界流体利用を考えているエンジニア、研究者

習得できる知識

・超臨界二酸化炭素流体の物理と化学
・超臨界二酸化炭素流体の利用分野・応用に関する知識
・気体、液体、超臨界流体の差異
・プロセス利用、装置考案の勘所

セミナープログラム

1.超臨界二酸化炭素流体とマイクロ・ナノプロセス
  (1)物質の三態と超臨界流体
  (2)超臨界流体の性質
  (3)気体、液体との比較
     −物理的メリット
     −化学的メリット
  (4)マイクロ・ナノプロセスにおける超臨界流体のメリット

2.超臨界乾燥
  (1)毛管凝集と乾燥収縮
  (2)超臨界乾燥の原理と特長
  (3)半導体プロセス、MEMSプロセスへの応用

3.超臨界流体を用いた半導体洗浄
  (1)超臨界流体利用の背景
  (2)トランジスタ形成工程への利用
  (3)多層配線形成工程への利用
  (4)実用化に向けて

4.低誘電率薄膜、多孔体と超臨界流体
  (1)多孔質体プロセスにおけるメリット
  (2)細孔エンジニアリング

5.めっきへの応用
  (1)高分子材料のメタライズ
  (2)電気めっき、半導体配線めっきへの応用
  (3)無電解めっきへの応用

6.化学薄膜堆積
  (1)薄膜堆積における超臨界流体の役割
  (2)金属薄膜堆積
  (3)絶縁膜堆積

7.超臨界流体をもちいたエッチング加工
  (1)エッチングとは
  (2)超臨界流体中でのエッチング
  (3)一貫プロセスの可能性

8.まとめ