
半導体産業と製造プロセス技術入門(全3回)【アーカイブ視聴対応】【LIVE配信・WEBセミナー】
~半導体産業の全体像および半導体前・後工程について~
★2025年11月20日、12月18日、2026年1月22日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社 鈴木 俊治 氏、沢田 憲一 氏、池永 和夫 氏が半導体産業と製造プロセス技術入門について解説する全3回の講座です。
■注目ポイント
★半導体材料の構造、CMOS LSIを中心にした半導体デバイスの作製プロセス技術について解説!
★半導体製造現場に求められるユーティリティ、品質管理、製品信頼性とは!?
★半導体パッケージに求められる機能、構造・種類およびパッケージに収納される組立てプロセスについて解説!
■予定スケジュール
※各講座は単回参加も可能です。単回参加をご希望の方は下記各講座HPよりお申込み下さい。
第1回:2025年11月20日(金) 10:00-17:00 講師:サクセスインターナショナル株式会社 鈴木 俊治 氏
→https://andtech.co.jp/seminars/1f0af102-38d8-60e0-9ba6-064fb9a95405
第2回:2025年12月18日(木) 13:30-16:30 講師:サクセスインターナショナル株式会社 沢田 憲一 氏
→https://andtech.co.jp/seminars/1f0af116-bb1f-6cd8-8f90-064fb9a95405
第3回:2026年1月22日(木) 13:30-16:30 講師:サクセスインターナショナル株式会社 池永 和夫 氏
→https://andtech.co.jp/seminars/1f0af122-e1d4-60ac-9328-064fb9a95405
セミナー趣旨
【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント・予定スケジュール】
■本セミナーの主題および状況
★半導体市場はAI・車載需要を背景に拡大を続け、2030年までに1兆ドル規模に達すると予測されている。
★前工程ではシリコンウェーハ製造、フォトリソグラフィ・成膜・エッチングといったプロセスが高度化しており、極端紫外線(EUV)リソグラフィや先端ノード対応が進展している。
★後工程ではパッケージ技術が進化し、3D実装・チップレット・先端封止技術などが半導体性能向上のカギを握っている。
★前工程・後工程を体系的に理解し、製造プロセス、品質管理、実装工程、さらにシステム設計の知識を整理することが、半導体産業全体の構造と課題を把握するために必須となっている。
■注目ポイント
★半導体材料の構造、CMOS LSIを中心にした半導体デバイスの作製プロセス技術について解説!
★半導体製造現場に求められるユーティリティ、品質管理、製品信頼性とは!?
★半導体パッケージに求められる機能、構造・種類およびパッケージに収納される組立てプロセスについて解説!
セミナープログラム
■予定スケジュール
第1回:2025年11月20日(木) 10:00-17:00 講師:サクセスインターナショナル株式会社 鈴木 俊治 氏
第2回:2025年12月18日(木) 13:30-16:30 講師:サクセスインターナショナル株式会社 沢田 憲一 氏
第3回:2026年1月22日(木) 13:30-16:30 講師:サクセスインターナショナル株式会社 池永 和夫 氏
※第1回のみ、講演時間が【10:00-17:00】となりますので、ご注意くださいませ。
講座担当:枩西 洋佑
≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン学習講座になります≫
【第1講】 2025年11月20日(木) 半導体、及び、半導体デバイス製造プロセス
【時間】 10:00-17:00
【講演主旨】
半導体の材料、その構造、物理など、基本について理解する。 CMOS LSIを中心にして半導体デバイスの作製プロセス技術について学ぶ。
【プログラム】
1.半導体とは
1-1 半導体の特長
1-2 半導体の物理
2.半導体材料
2-1 Ge, Si, 化合物半導体
2-2 その他の半導体材料
2-3 Siの特長
3.Si Wafer
3-1 Si Waferの製法(石英からSi Wafer)
3-2 Si WaferからLSIまで
4.半導体デバイス製造プロセス
4-1 デバイス製造プロセスの概要
4-2 フォトリソグラフィ
4-2-1 フォトリソグラフィ工程の流れ
4-2-2 デバイスの発展とフォトリソグラフィ技術
4-2-3 微細化対応
4-2-4 露光光源波長、光学系、露光方式
4-2-5 フォトレジスト
4-2-6 フォトマスク(レクチル)
4-2-7 超解像技術、パターン忠実化技術
4-3 洗浄技術
4-3-1 バッチ式洗浄
4-3-2 枚葉式洗浄
4-4 不純物導入技術
4-4-1 熱拡散
4-4-2 イオン注入
4-4-3 アニール(Anneal)
4-5 成膜技術
4-5-1 熱酸化技術
4-5-2 CVD技術
4-5-3 スパッタ技術
4-5-4 その他成膜技術
4-6 ドライエッチング技術
4-7 平坦化技術(CMP)
4-8 電気検査
4-8-1 Tr特性評価
4-8-2 信頼性評価
4-8-3 歩留まり評価
【質疑応答】
【第2講】 2025年12月18日(木) 半導体製造現場における品質管理技術・製品信頼性と実践知識
【時間】 13:30-16:30
【講演主旨】
1.半導体製造現場におけるユーティリティ、及び、品質管理・製品信頼性を勉強します。
2.職場における要改善の対象となる諸項目について、その解決策を受講者の皆さんと一緒に考えます。
解決策としての諸要件について、経営的要素の観点から提案します。
3.継続的改善成果を維持する為に必要な考え方、対策を提案します。
4.第2講では、生産活動の基本としての各項目を、QDCSの観点から最適化に向けた留意点を考えます。
【プログラム】
1.クリーンルーム
2.超純水
3.真空機器・ガス
4.信頼性
5.品質管理
6.工程管理
7.環境問題と安全衛生
【質疑応答】
【第3講】 2026年1月22日(木) 半導体パッケージと組立てプロセス
【時間】 13:30-16:30
【講演主旨】
ウェハー(半導体チップ)完成後、チップの品質・信頼性を保持するためにパッケージに収納される。そのパッケージに求められる機能及びパッケージの構造・種類及びパッケージに収納される組立てプロセスを理解する。また、最近のパッケージの技術動向とその課題について学ぶ。
【プログラム】
1.パッケージの機能
2.パッケージの種類と構造
3.バックグラインド工程
4.ダイシング工程
5.ダイボンディング工程
6.ワイヤボンディング工程
7.モールド成型工程
8.外装めっき工程
9.マーキング工程
10.トリム&フォーミング工程
11.電気特性測定工程
12.梱包工程
13.最新パッケージの技術動向
14.バンプ形成技術
15.フリップチップボンディング工程
【質疑応答】
セミナー講師
第1部 サクセスインターナショナル株式会社 技術顧問 鈴木 俊治 氏
第2部 サクセスインターナショナル株式会社 沢田 憲一 氏
第3部 サクセスインターナショナル株式会社 取締役社長 池永 和夫 氏
セミナー受講料
【1名の場合】99,000円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、16,500円が加算されます。
受講料
99,000円(税込)/人