クライオエッチングの基礎・現状・課題と低温下における表面反応

受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

日時

【Live配信】2025年10月28日（火） 13:00～16:30
【アーカイブ配信】視聴期間：2025年10月29日（水）PM〜11月5日（水）を予定

アーカイブ(見逃し)配信について
※アーカイブは原則として編集は行いません
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
(開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます）

【項目】※クリックするとその項目に飛ぶことができます

セミナー趣旨

デバイス微細化と三次元化に向けて注目の「クライオエッチング」基礎・現状・課題とその全貌を半日速習！
プロセス制御、材料選定などに広く基礎知識として押さえておきたい低温下における表面反応について、解析結果とともに解説します。

　先端半導体デバイス製造において、プラズマエッチングはデバイスの高性能化を牽引してきた不可欠なプロセス技術である。近年、デバイスの微細化に加え、三次元構造化が進められ、プラズマエッチングに対する要求は益々高まっている。ここで、エッチング速度の向上や形状制御の観点から、基板温度を氷点下から極低温領域まで冷却するクライオエッチングが注目されている。本講座では、クライオエッチングの開発経緯から、その基礎として低温下における表面反応の解析結果を示す。また、技術の現状と今後の課題を俯瞰し、当技術の全貌を解説する。

セミナープログラム

１．背景

２．エッチングプロセスの基礎
　2.1 プラズマ生成と表面反応
　2.2 高アスペクト比（HAR)エッチング
　2.3 チャージング現象

３．クライオエッチングの開発経緯
　3.1 Si
　3.2 SiO2
　3.3 その他の材料

４．クライオエッチング技術の現状
　4.1 超高アスペクト比加工
　4.2 形状制御

５．クライオエッチングのハードウェア

６．低温における表面反応
　6.1 表面分析　FT-IR　XPS　水添加の効果　水の役割
　6.2 表面抵抗評価
　6.3 表面層のイメージ‐疑ウェットプラズマエッチングの提案

７．クライオALE
　7.1 SiO2
　7.2 SiN
　7.3 金属材料

８．課題と展望

９．まとめ

　　□質疑応答□

セミナー講師

名古屋大学低温プラズマ科学研究センター特任教授　関根誠氏

セミナー受講料

49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 )
　定価：本体45,000円＋税4,500円
　E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円
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1名申込みの場合：受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円)
　定価：本体36,000円＋税3,600円
　E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円
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