接着制御・メカニズム解析の考え方と分析評価法


　接着技術の開発とコントロールを行うために
　知っておきたい知識・ノウハウ



「接着は難しい」と言われる理由の一つに被着材と接着剤の界面状態や構造・特性の把握が難しいということがあげられます。接着・剥離のメカニズムと制御方法、表面・界面の真の姿を知るためのアプローチ法と分析・解析方法を事例も交えながら解説します


セミナー講師


ジャパン・リサーチ・ラボ 代表 博士（工学） 奥村 治樹 氏

受講料


49,500円 ( S&T会員受講料 47,020円 、昼食・資料付)
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セミナー趣旨


　あらゆる工業分野で、接着技術は様々な用途、場面で用いられており、現代において必要不可欠なものの一つとなっている。また、文字通りの接着はもちろん、メッキや塗膜などの膜形成も接着技術の応用であると言える。すなわち、材料特性や製品性能を左右するのが接着技術であり、接着技術を支配することはあらゆる分野の基盤であると言える。そして、その接着と表裏一体のものとして扱わなければならいのが剥離である。接着や剥離現象を制御するためには、その表面や界面の状態や構造・特性を把握することが必要不可欠であるが、その重要度にもかかわらず、表面や界面の真の姿を知ることは容易ではない。
　本講演では、接着・剥離のメカニズムとその制御における表面・界面の真の姿を知るためのアプローチ法と分析、解析の方法を中心にして、事例も交えながら詳細に解説を行う。

セミナー講演内容


１．接着に支配される現代社会

２．接着とは
　2.1 接着と粘着
　2.2 接着を生む力

３．接着を支配するもの
　3.1 接着・剥離を支配するもの
　3.2 表面を支配するには
　3.3 表面が関わるその他の現象
　3.4 接着関与因子と評価法

４．接着・剥離分析の考え方
　4.1 接着解析の分類
　4.2 接着分析のパターン
　4.3 接着過程の解析
　4.4 剥離箇所の特定
　4.5 剥離原因の分類
　4.6 正常品分析の難しさ

５．問題解決アプローチ
　5.1 問題解決のアプローチ
　5.2 剥離の観察
　5.3 視る
　5.4 剥離状態の解析
　5.5 代表的要因別アプローチ
　5.6 複合要因の分離
　5.7 加速試験
　5.8 アプローチの例（位置、サイズ）

６．樹脂／金属の接着
　6.1 金属／樹脂の接着パターン
　6.2 相互作用・反応の様式例
　6.3 金属基材の前処理
　6.4 接着不良要因

７．不良解析
　7.1 剥離解析ファーストステップ
　7.2 ファーストステップの観点
　7.3 界面剥離の場合
　7.4 界面剥離の場合
　7.5 層内剥離の場合
　7.6 接着不良の場合
　7.7 不良対策

８．メカニズム解明

９．ケーススタディー
　9.1 前処理による接着強度の変化
　9.2 シランカップリング反応
　　9.2.1 代表的な処理方法
　　9.2.2 処理条件
　　9.2.3 条件と構造の多様性の例
　　9.2.4 基材表面の解析
　　9.2.5 反応の一般論
　　9.2.6 加水分解と自己縮合
　　9.2.7 複雑性の一例
　　9.2.8 フィラー処理
　9.3 視るべきポイント：シランカップリング反応
　9.4 解析の難しさと障害：シランカップリング反応
　9.5 シランカップリング反応の解析とは言うけれど
　　9.5.1 反応解析のポイント
　　9.5.2 反応率解析
　9.6シランカップリング基材表面の解析法

１０．今後の注目領域

１１．表面分析成功のキーポイント 
　11.1 接着剥離分析≒表面・界面分析
　11.2 表面分析の心構え
　11.3 試料の取り扱い

１２．表面とは

１３．代表的分析手法の使用例
　13.1 X線光電子分光法による組成官能基評価（ＸＰＳ，ＥＳＣＡ）
　13.2 オージェ電子分光法による界面評価
　13.3 TOF-SIMSによる表面化学構造評価
　13.4 ＦＴＩＲによる硬化挙動の解析
　13.5 ＳＥＭ、ＴＥＭによる界面の観察
　13.6 ＥＰＭＡによる表面処理の評価
　13.7 走査型プローブ顕微鏡による評価
　13.8 µ－ＴＡによる評価
　13.9 接着（剥離）強度評価

１４．接着界面の分析
　14.1 接着における界面の重要性
　14.2 界面の形成,分類
　14.3 界面における課題
　14.4 界面分析のフェーズ
　14.5 イオンエッチング法
　14.6 XPSによる深さ方向分析（角度変化法）
　14.7 角度変化ATR法
　14.8 精密斜め切削法
　14.9 新しいアプローチ

１５．解析の実例
　15.1 ＰＩ／Ｃｕ／Ｓｉ接着界面の解析
　15.2 接着前処理層の深さ方向分析
　15.3 ＵＶ表面処理による構造変化の深さ方向解析
　15.4 UV照射によるオレフィンの構造変化
　15.5 ＸＰＳによる紫外線照射ＰＩの解析
　15.6 気相化学修飾法

１６．仮説思考による研究開発と問題解決
　16.1 仮説モデルの構築
　16.2 目的→ゴール、そして、仮説
　16.3 仮説の証明と分析
　16.4 課題解決・研究開発とは
　16.5 接着の実現・剥離の解決
　16.6 見えているものが全てではない

１７．まとめと質疑