【緊急開催】米中ハイテク戦争と半導体メモリ不況を生き抜くビジネスの羅針盤
米国が「国防権限法2019」によりファーウェイを排除へ
米中ハイテク戦争が中国半導体産業の成長を加速する
“スーパーサイクル”が一転して半導体メモリ大不況に突入
『全ての日本企業は、米中ハイテク戦争の影響を受けます。特に、東京五輪直後の2020年8月13日から施行される米国の「国防権限法2019」への対応は待ったなしの状況です。対策を怠った企業は、窮地に陥ることになります。』
★ 例年、夏に開催している激動の世界半導体業界を展望する湯之上氏の講演では、半導体業界とイノベーションについて、材料・技術・市場の動向や今後の展望などを一日で俯瞰し、半導体デバイス、装置、部材、設備、材料などの半導体関連企業が生き残る・勝ち残るために必要な情報を提供し、好評を博している。
★ 今年は昨年末からのメモリ大不況到来など、一刻を争う状況を考慮して緊急開催！ 情報収集・市場調査・マーケティングで致命的な遅れを取るな！
セミナー講師
微細加工研究所 所長 工学博士 湯之上 隆 氏
【専門】
半導体技術（特に微細加工技術）、半導体産業論、経営学、イノベーション論
1987年3月、京都大学大学院工学研究科修士課程原子核工学専攻を卒業。
1987年4月〜2002年10月、16年間に渡り、日立製作所・中央研究所、半導体事業部、
デバイス開発センター、エルピーダメモリ(出向)、半導体先端テクノロジーズ(出向)
にて、半導体の微細加工技術開発に従事。
2000年1月、京都大学より、工学博士。
学位論文は、「半導体素子の微細化の課題に関する研究開発」。
2002年10月〜2003年3月、株式会社半導体エネルギー研究所。
2003年4月〜2009年3月、長岡技術科学大学・極限エネルギー密度工学研究センターにて、
客員教授として、高密度プラズマを用いた新材料の創生に関する工学研究に従事。
2003年10月〜2008年3月、同志社大学にて、専任フェローとして、技術者の視点から、
半導体産業の社会科学研究に従事。
2007年7月〜9月、「半導体の微細化が止まった世界」の研究のため、世界一周調査。
2009年8月、光文社より『日本半導体敗戦』を出版。
2009年年末、株式会社メデイアタブレット 取締役。
2010年夏～現在、微細加工研究所を設立、所長
（主たる業務はコンサルタント、調査・研究、講演、原稿執筆）。
2011年8月 界面ナノ電子化学研究会の公認アドバイザー
2012年、日本文芸社より『電機半導体大崩壊の教訓』出版。
2013年、文春新書より、『日本型モノづくりの敗北』出版。
その他、東北大学工学部、京大原子核工学の非常勤講師
以下に連載記事を執筆中
・メルマガ『内側から見た「半導体村」今まで書けなかった業界秘話』（隔週で配信）
・EE Times Japan 『湯之上隆のナノフォーカス』（1ヶ月に1回）
・日本ビジネスプレス『日本半導体・敗戦から復興へ』（1ヶ月に1回）
・ビジネスジャーナル『半導体こぼれ話』（1ヶ月に1回）
・NHKマイあさラジオ『社会の見方・私の視点』（不定期、1ヶ月に1回位）
・伊勢新聞『半導体漫遊記』（隔週）
・図研from_Z『湯之上博士のTREND WATCH』（1年に2回）
・Wedge Infinity（東芝問題を10回連載）
受講料
48,600円 ( S&T会員受講料 46,170円 )
(まだS&T会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
S&T会員なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で48,600円 (2名ともS&T会員登録必須／1名あたり定価半額24,300円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともS&T会員登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
得られる知識
・パラダイムシフトとイノベーションの正しい定義
・米中ハイテク戦争の詳細
・ファーウェイの実力
・中国の「国家情報法」の概要
・米国の「国防権限法2019」の概要と対策方法
・中国半導体産業と装置産業の実態と展望
・半導体メモリ不況の原因
・半導体メモリ不況がいつ終焉し、いつ再爆発するか
・マーケテイングの必要性と強化方法
・新市場の創造に必要なこと
対象
米中とビジネスを行っているすべての企業の経営者、技術者、営業、マーケテイング関係者、特に半導体デバイス、装置、材料、絶微メーカーの経営者、技術者、マーケテイング関係者、新規ビジネスを立ち上げようとしている方々。
セミナー趣旨
中国ファーウェイの孟副会長が2018年12月1日に逮捕されて以降、米国によるファーウェイへの攻撃が激化している。米国は2018年8月13日にトランプ大統領が著名して「国防権限法2019」を成立させ、ファーウェイ等中国企業を世界中から排除しようとしている。「国防権限法2019」は、2020年8月13日に施行され、その影響は日本の電機・半導体産業はもちろんのこと、自動車、鉄鋼、素材、アパレルなど、あらゆる業種に及ぶ。この法律への対策を怠った企業は、東京五輪の直後に危機的状況に陥ることになる。
中国では習近平国家主席の肝煎りの産業政策「中国製造2025」のもと、半導体産業の大ブームが到来している。しかし、米国が製造装置の輸出を禁じるなど、米中ハイテク戦争が中国の半導体産業の成長を阻害し始めている。しかし、米国による兵糧攻めは、一時的に中国半導体産業の成長をスローダウンさせるが、中長期的には逆に成長を加速する可能性が高い。
2017年から2018年にかけて、半導体メモリ市場が大爆発したが、2018年末からメモリの大不況が到来した。この原因は、インテルが10nmプロセスの立上に失敗し続けていることに原因がある。インテルがPC用やサーバー用プロセッサを十分供給できないため、これらを当てにして製造されたメモリが行き場を失って溢れてしまい、価格暴落を引き起しているからだ。では、いつインテルが10nmの立上に成功し、再びメモリ市場が爆発するのか。
本セミナーでは、「国防権限法2019」への対策はどうしたらよいか、米中ハイテク戦争にどう対処したらよいのか、中国半導体産業は今後どうなるのか、メモリ不況がいつまで続くのか、再びメモリ市場が大爆発するのはいつか、について詳細に解説する。その上で、先行き不透明なこの時代に、新市場を創造するにはどうしたら良いかを論じる。
セミナー講演内容
【キーワード】
米中ハイテク戦争、ファーウェイ、中国の「国家情報法」、米国の「国防権限法2019」
中国の半導体産業、中国の製造装置産業、半導体メモリ、スーパーサイクル、メモリ不況
インテルの10nmプロセス、Co配線とRuバリア、マーケテイング、新市場の創造
１．はじめに（自己紹介）
２．本講演の概要と結論
３．パラダイムシフトとイノベーション
3.1 パラダイムシフトとは何か
3.2 イノベーションとは何か
3.3 破壊的イノベーションとは何か
４．米中ハイテク戦争
4.1 米中ハイテク戦争の経緯
4.2 ファーウェイの恐るべき実力
4.3 なぜ、米国はファーウェイを攻撃するのか
4.4 中国の「国家情報法」について
4.5 米国の「国防権限法2019」について
4.6 ソフトバンクのケーススタデイ
4.7 踏絵を迫っている「国防権限法2019」
4.8 ファーウェイとの取引企業への制裁措置はどうなる？
５．中国半導体産業の課題と展望
5.1 中国半導体産業の課題は低い自給率
5.2 中国の半導体政策と半導体工場の建設計画
5.3 中国半導体産業の大ブーム
5.4 中国のファブ建設の数が突出
5.5 半導体製造装置の市場－前工程編－
5.6 半導体製造装置の市場－後工程編－
5.7 中国が半導体大国への道を驀進中
5.8 中国の製造装置産業の現状と展望
5.9 米中ハイテク戦争が中国半導体産業に与えるインパクト
６．スーパーサイクルが一転してメモリ大不況へ
6.1 ビッグデータ時代の到来がメモリ市場を大爆発させた
6.2 2018年はメモリメーカーが史上空前の好況に沸いた
6.3 2018年末から一転してメモリ市場が大不況に突入
6.4 メモリ不況の原因はインテルの10nmプロセス立上失敗にある
6.5 インテルの10nmが立上らない技術的問題はCo配線とRuバリア
6.6 いつ、インテルの10nmが立上るのか
6.7 メモリ不況はいつ終焉し、いつ再爆発するのか
７．先行き不透明な時代を生き抜くための羅針盤
7.1 ビッグデータ、AI、5Gの時代が到来
7.2 変化に適応するためにはマーケテイングの強化が必要不可欠
7.3 何がイノベーションを妨げているか
7.4 全員がマーケッターになれ
7.5 新市場を創造するためには問題の発明が必要
7.6 新市場の創造とは“あなたの信念”である
８．まとめと提言
□ 質疑応答・名刺交換 □
※ 概ね上記内容に沿った進行を予定しておりますが、新たに報じられる情報など、
トレンドを重視して詳細プログラムが更新される可能性もございます。
