先端半導体の製造プロセス、デバイス、実装技術に関する特許出願動向および知財戦略の一考察~EUV、ナノシート、次世代不揮発性メモリ、チップレットの特許出願動向より~

先端半導体の製造における重要技術の特許出願状況、主要プレイヤーの動向、EUVレジスト等の最新技術など、周辺状況の整理・把握に最適!知財戦略策定に向けたヒントを得られます。 

【項目】※クリックするとその項目に飛ぶことができます

    セミナー趣旨

      日本の半導体製造技術の復活に向け、TSMCの子会社JASMやRapidusが設立され、半導体製造技術に注目が集まりつつあります。今回、最近の半導体の国際学会情報、書籍、Web上の技術情報をもとに、注目される先端半導体の製造プロセス、デバイス、実装技術を抽出し、それらに関する近年公開された米国特許出願を中心に、無料特許データベースツールを用いて分析を行います。分析においては、各社の出願状況を探り、半導体製造技術における知的財産戦略の一端の考察を行う予定です。注目技術として、EUV露光とレジスト、トランジスタ構造、次世代不揮発性メモリ、チップレット等を紹介予定です。

    受講対象・レベル

    ・先端半導体の製造における重要技術の近年の出願状況を知りたい方
    ・先端半導体の製造に関連する主な会社の出願状況を知りたい方
    ・先端半導体の製造に関連する会社の知財戦略に向けた基礎情報を得たい方

    必要な予備知識

    ■本テーマ関連法規・ガイドラインなど
    ・各国特許法

    習得できる知識

    ・先端半導体の製造における重要技術に関する特許出願状況
    ・先端半導体の製造に関連する主な会社の出願状況
    ・先端半導体の製造に関連する会社の知財戦略に向けた基礎データの一部

    セミナープログラム

    1.半導体業界の状況
     1-1.半導体業界の概観
     1-2.半導体製造会社(TSMC, Intel, Samsung, Rapidus等)
     1-3.半導体製造の研究開発部門(IMEC,IBM,LSTC等)
     1-4.半導体装置、材料メーカー
    2.学会、書籍、業界Web情報等から見る注目技術
     2-1.IEDM、Symposium on VLSI Technology and Circuits
     2-2.書籍
     2-3.Web上の技術情報
    3.注目技術
     3-1.注目技術の概観
     3-2.EUV露光装置
     3-3.EUVレジスト
     3-4.トランジスタ(ナノシート、GAA)
     3-5.トランジスタ(CFET)
     3-6.次世代不揮発性メモリ(RRAM)
     3-7.次世代不揮発性メモリ(MRAM)
     3-8.チップレット
    4.今回の特許分析方法
     4-1.特許分析の考え方
     4-2.J-PlatPat
     4-3.Espacenet
     4-4.ULTRA Patent
     4-5.その他
    5.注目技術に関する特許出願分析
     5-1.EUV露光装置
     5-2.EUVレジスト
     5-3.ナノシート、GAA、CFET
     5-4.RRAM、MRAM
     5-5.チップレット、3D実装
    6.特許分析からの知財戦略の一考察
     6-1.特許業界の状況
     6-2.特許係争事例
     6-3.オープン&クローズ戦略
     6-4.NPE(Non Practicing Entity:特許不実施主体)
     6-5.知財戦略の一提案
    7.まとめ


    *プログラム項目は一部変更となる場合がございます。予めご了承いただきますようお願い申し上げます。


    *途中、小休憩を挟みます。


    ■講演中のキーワード
    EUV(Extreme UltraViolet)、GAA(Gate All Around)、RRAM(Resistive Random Access Memory)、
    MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory)、チップレット 

    セミナー講師

     弁理士法人深見特許事務所 機械第1部 顧問   栗山 祐忠 氏

    ■ご経歴
    ・富山大学 理学部物理学科卒業(1984)
    ・富山大学大学院 理学研究科 物理学専攻 修士課程終了(1986)
    ・三菱電機(株)(1986-2003) LSI研究所、知的財産部門
    ・弁理士登録(2005)
    ・(株)ルネサステクノロジ [現 ルネサスエレクトロニクス(株)](2003-2018)
     特許部長(2011-2018)、特許調査部長(2011-2012)
    ・深見特許事務所(2019-)
    ■ご専門および得意な分野・ご研究
    ・知的財産権
    ・半導体デバイスおよび回路
    ■本テーマ関連学協会でのご活動
    <委員>
    ・日本弁理士会 特許委員会(2009-2011)
    ・半導体理工学研究センター(STARC) 法務知財委員(2011)
    ・日本弁理士会 国際活動センター(2013-2014)
    ・日本弁理士会 知財プレゼンス向上委員会(2020-2021)
    <講師>
    ・日本弁理士会 特許委員会公開フォーラムin東京(米国法におけるダブルトラック制度担当)(2012)
    ・日本弁理士会 関西会 パテントセミナー2022 「オープン&クローズ戦略」担当(2022)
    ・京都先端科学大学 工学部 「知的財産関連講座」(日本弁理士会 個別大学支援事業) 講師(2023-)
    ・兵庫県立大学 環境人間学研究科 博士前期課程1年「研究において考慮すべき知財」(日本弁理士会 個別大学支援事業) 講師(2024-)

    セミナー受講料

    【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 40,700円(税込(消費税10%)、資料付)
    *1社2名以上同時申込の場合、1名につき29,700円

    【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 46,200円(税込(消費税10%)、資料付)
    *1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,200円

    *学校法人割引:学生、教員のご参加は受講料50%割引。

    受講について

    • 配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
      (開催1週前~前日までには送付致します)
      ※準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
      (土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)
    • 受講にあたってこちらをご確認の上、お申し込みください。
    • Zoomを使用したオンラインセミナーです
      →環境の確認についてこちらからご確認ください
    • 申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です
      →こちらをご確認ください

     

    受講料

    40,700円(税込)/人

    ※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

    開催日時


    13:00

    受講料

    40,700円(税込)/人

    ※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

    ※銀行振込、コンビニ払い

    開催場所

    全国

    主催者

    キーワード

    半導体技術   電子デバイス・部品

    ※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

    開催日時


    13:00

    受講料

    40,700円(税込)/人

    ※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

    ※銀行振込、コンビニ払い

    開催場所

    全国

    主催者

    キーワード

    半導体技術   電子デバイス・部品

    関連記事

    もっと見る