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Siパワーデバイスの現状からワイドギャップ半導体パワーデバイスの開発動向や課題まで分かりやすく解説します!
こちらは4/10実施WEBセミナーのアーカイブ(録画)配信です。
セミナー趣旨
パワーエレクトロニクス産業を根底から支えているパワーデバイスは、現状90%以上がSiを用いて製造されています。今後も、Siパワーデバイスが主流なのは間違いありません。Siパワーデバイスで主導権を維持するには、製造ラインの300mm化が必須ですが、日本はすでに大きく出遅れています。一方、Siパワーデバイス性能向上限界説が聞かれるようになり、次世代パワーデバイス用材料として、ワイドギャップ半導体が期待されています。しかしながら、結晶品質がSiと比べて劣っている、製造プロセスが確立していない、信頼性に不安がある、コストが高い等々、量産化には多くの課題があります。
本セミナーでは、パワーデバイス進化の歴史と将来展望およびワイドギャップ半導体パワーデバイスの現状と課題について解説します。
受講対象・レベル
・パワーデバイス開発技術者、管理者、営業担当者
習得できる知識
・パワーエレクトロニクスおよびパワーデバイスへの期待
・パワーデバイスによる電力変換と高性能化
・パワーチップおよびパワーモジュールの構造
・ワイドギャップ半導体パワーデバイスの開発ターゲット
・Siパワーデバイスの優位性と課題
・ワイドギャップ半導体パワーデバイスの優位性と課題
・日本の電子デバイス産業における失敗事例
・パワーデバイス産業の将来展望と日本の地位
セミナープログラム
1.パワーエレクトロニクスおよびパワーデバイスへの期待
1-1.パワーエレクトロニクスへの期待
1-2.パワーデバイスの適用分野
1-3.パワーデバイスによる電力変換
1-4.パワーデバイスの高性能化
2.パワーチップおよびパワーモジュールの構造
2-1.パワーチップの構造
2-2.パワーモジュールの構造
2-3.パワーデバイスの製造プロセス
3.Siおよびワイドギャップ半導体パワーデバイスの技術開発
3-1.Siパワーデバイスの技術開発
3-2.SiCパワーデバイスの技術開発
3-3.GaNパワーデバイスの技術開発
3-4.酸化ガリウムパワーデバイスの技術開発
4.電子デバイス盛衰の歴史とパワーデバイスの将来展望
4-1.日本の電子デバイス盛衰の歴史
4-2.世界のパワーデバイスの状況
4-3.日本のパワーデバイスの将来展望
5.まとめ
半導体、パワー、デバイス、モジュール、チップ、ワイドギャップ、SiC、GaN
セミナー講師
グリーンパワー山本研究所 所長 山本秀和 氏
兼 FTB研究所 特別顧問
兼 パワーデバイスイネーブリング協会 理事
兼 千葉工業大学 非常勤講師、共同研究員
<ご専門>
半導体結晶、半導体デバイス、パワーデバイス
<学協会>
パワーデバイスイネーブリング協会
<ご略歴>
1984年3月 北海道大学大学院博士後期課程修了(工学博士)
1984年4月 三菱電機(株)入社(2010年3月退社)
2010年4月 千葉工業大学 教授(2022年3月退職)
2015年6月 パワーデバイスイネーブリング協会 理事
2022年4月 FTB研究所 特別顧問
2022年4月 千葉工業大学 非常勤講師
2022年8月 グリーンパワー山本研究所 所長
2022年8月 千葉工業大学 付属研究所 共同研究員
セミナー受講料
49,500円(税込、資料付)
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2名同時申込の場合計49,500円(2人目無料:1名あたり24,750円)で受講できます。
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受講について
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・セミナー資料は配信開始日までにPDFで配布します。セミナー資料は紙媒体では送付しません。セミナー資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
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