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半導体技術 とは

半導体の前工程(クリーンルーム)、後工程に関する固有技術。

半導体技術のセミナー

パワーモジュール組立(封止・接合)技術と高熱伝導化
開催日 (登録日:2017-11-15 / 開催日:2018-2-5)
説明 省エネや環境問題などの意識の高まりにより、自動車の電動化や白物家電のインバータ化、 再生可能エネルギーへの転換が更に進むことが見込まれています。 それらに搭載されるパワーデバイス…
CMPの基礎から応用まで
開催日 (登録日:2017-11-19 / 開催日:2018-1-16)
説明 ~ 研磨メカニズムから応用工程、装置、消耗材(パッド、スラリー、ドレッサ)、プロセス・材料評価方法まで ~ ★ 経験に頼る部分が多かったCMP工程の各種メカニズムを解き明かす!…
静電気の必須基礎知識と各種製造プロセスにおける除電技術
開催日 (登録日:2017-11-3 / 開催日:2017-12-25)
説明 ★ まず静電気の基礎について説明し、半導体・液晶製造等のクリーンルームにおける静電気障害について触れ、イオナイザーの除電原理、種類と特徴、具体的な選定方法と使用上の注意点、除電性…
次世代パワーデバイス対応耐熱実装材料の課題と対策
開催日 (登録日:2017-11-3 / 開催日:2017-12-22)
説明 ~ 耐熱性、熱膨張率、熱伝導率と封止用樹脂の設計と評価 ~ ★ 300℃以上でも動作可能なデバイスを活用するための、高温に耐える実装技術とその材料とは★ 開発途上にあるパッ…
量子ドットの基礎・表面修飾・分散技術とディスプレイへの応用
開催日 (登録日:2017-11-14 / 開催日:2017-12-21)
説明 ~ 量子ドット vs 有機EL/量子ドット・ロッドの保護技術/課題・応用 ~ ★ 有機ELが本格的に登場し、今後目が離せないディスプレイ業界!!★ 液晶ディスプレイや量子ドット…
リソグラフィーにおけるフォトレジスト材料の評価方法
開催日 (登録日:2017-11-3 / 開催日:2017-12-21)
説明 〜研究開発、製造、品質管理に役立つ評価技術〜 ★ あまり情報がないフォトレジストの評価法を詳しく解説!★ レジストの光学パラメータや現像速度データを用いたシミュレーション! …
大容量パワーデバイスの放熱技術とヒートシンク材の開発動向
開催日 (登録日:2017-11-15 / 開催日:2017-12-15)
説明 大容量パワーデバイスと放熱技術の動向、及びヒートシンク材料の開発動向について、各分野の講師の方々に詳細に解説して頂きます。 【講演テーマ/講師】  10:40~12…
ミストCVD技術の開発と今後の可能性
開催日 (登録日:2017-10-19 / 開催日:2017-12-12)
説明 ~注目の薄膜形成技術ミストCVDの実力に迫る~  非真空プロセス、低イニシャルコスト・運用コスト、大面積の膜形成が可能などと言った特徴を持つ薄膜形成技術ミスト化学気相成長法…
MEMS技術入門【2日間講座】
開催日 (登録日:2017-10-19 / 開催日:2017-12-11)
説明 ― 基礎・各工程から各分野への応用・最新トレンドまで ― ★充実の資料・解説で大好評だった「東北大学 江刺教授」のMEMSセミナーを2日間に拡大し再開講!★知っておくべきMEM…
<変化する要求特性に対応するための> 透明導電膜の基礎、現状把握と技術動向
開催日 (登録日:2017-10-12 / 開催日:2017-12-8)
説明 ~透明導電性酸化物の概要~~透明導電膜の薄膜形成法~~透明導電膜材料の性能指数評価、各材料の課題~ ★ 透明導電膜の種類・特徴・原理について基礎から解説★「どんな種類がある…
酸化ガリウム単結晶・ウェハ・薄膜とパワーデバイス研究・開発最前線
開催日 (登録日:2017-9-28 / 開催日:2017-12-8)
説明 セミナーの趣旨 本セミナーの趣旨 SiC、GaNと比較して高耐圧・低消費電力、低コスト化が期待される酸化ガリウムパワーデバイスについて、その材料とデバイスの基礎から最先端の開発…
SiCパワーデバイス・GaNパワーデバイスの現状・課題と最新技術動向
開催日 (登録日:2017-10-19 / 開催日:2017-12-6)
説明 ~最新のSi-IGBT、SiC、GaN、高温対応実装技術まで~ ★ Si-IGBT、SiCパワーデバイス、GaNパワーデバイスは、今はどうなっているのか? ★ 過去30年を…
スパッタリング薄膜における特性と密着性・信頼性改善ノウハウ 
開催日 (登録日:2017-11-1 / 開催日:2017-11-29)
説明  薄膜の特性管理、剥離の発生・密着性評価手法および改善技術とそのポイント  プロセスが複雑なスパッタリング薄膜を正しく理解し、密着性を向上させるための講座・薄膜の密着性・信頼性…
FOWLPの基礎と最新技術動向
開催日 (登録日:2017-9-20 / 開催日:2017-11-27)
説明 ☆半導体パッケージ技術の基礎から、最新FOWLP技術について詳しく解説する! 講師 (株)ISTL 代表取締役社長 博士(工学) 礒部 晶 氏【ご略歴】 1984 京都大学工…
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術
開催日 (登録日:2017-9-11 / 開催日:2017-11-20)
説明 歩留まり向上のためのクリーン化技術および洗浄・乾燥技術について、基礎から“最先端技術”まで分かりやすく解説! 講師 Hattori Consu…

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生産マネジメント > 生産工学
固有技術 > 半導体技術
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