基礎から学ぶスパッタリング法〜成膜メカニズムから、効果的な条件設定・最適化、分析手法、成膜事例まで〜

効率的に最適条件を確立するためにスパッタリングの基本を学ぶ!
スパッタリング・真空の基礎知識から薄膜の微細構造と
成膜条件の関係性、薄膜の分析法と結果の活かし方のポイント、
透明導電膜を例に用いたケーススタディまで


講師


中部大学 工学部 応用化学科 教授 山田 直臣 先生


講師紹介


ご略歴:


平成12年3月:東京大学大学院工学系研究科 応用化学専攻 博士課程修了
 SnドープIn2O3(ITO)薄膜の電子伝導機構の研究
平成12年4月~平成16年9月:帝人株式会社
 DVD-RAMの開発、平面型ディスプレイ用の光学フィルムの開発
平成16年10月~平成18年4月:青山学院大学 研究員
 Cu(In, Ga)Se2薄膜太陽電池の高効率化を目指した要素技術の開発
平成18年度~21年6月:(財)神奈川科学技術アカデミー 研究員
 TiO2系透明導電体の開発
平成21年7月~27年3月:中部大学工学部応用化学科 准教授
平成27年4月~現在:同 教授
環境調和型の薄膜電子材料に関する研究に取り組んでいる。
化学工学会 東海支部 幹事
日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 幹事・運営委員
文科省 科学技術・学術政策研究所 科学技術予測センター 専門調査委員


受講料


1名38,000円 + 税、(資料付)  
*1社2名以上同時申込の場合 、1名につき28,000円 + 税  
※消費税につきましては講習会開催日の税率にて課税致します。      
*学校法人割引 ;学生、教員のご参加は受講料50%割引。


セミナー開催にあたって


■はじめに:
 真空プロセスを用いた薄膜の作製方法には様々な種類があります。
なかでもスパッタリング法は大面積基板へ高速に薄膜を形成できるため、工業的に用いられています。
 スパッタリング法で良質な薄膜を得るには成膜条件の設定が極めて重要です。
   しかし、最適条件の確立は試行錯誤的になりがちです。 効率的な最適条件の確立には、スパッタリング法の基礎を理解することが欠かせません。
 本セミナーでは、成膜条件を変えた時に起こる現象を正しく理解できるようになることを主な目的とし、
真空・スパッタリング法の基礎的な知識を整理します。さらに、薄膜の分析法についても解説し、
分析結果をどのように成膜条件にフィードバックするかについても紹介いたします。
 また、ケーススタディーとして透明導電膜の最適条件の確立についてもご紹介いたします。

■受講対象者:
本セミナーの対象は、スパッタリング法を使い始めた初心者の方や最適条件の確立に
お困りの方を想定しております。

■必要な予備知識:
高校卒業レベルの物理・化学の知識。

■本セミナーで習得できること(一例):
・スパッタリング法に関する基礎知識
・真空に関する基礎知識
・薄膜の微細構造と成膜条件の関係
・成膜条件設定の基本的な考え方


セミナー内容


1.スパッタ薄膜の概観
 1-1.スパッタリング法と蒸着法の違い
 1-2.スパッタ条件選定の重要性
 1-3.スパッタリング法の応用例

2.真空・低圧気体の運動
 2-1.真空の必要性
 2-2.気体の分子運動
 2-3.真空を作る・計る

3.放電現象
 3-1.気体と電子の衝突
 3-2.グロー放電
 3-3.高周波放電
 3-4.マグネトロン放電

4.スパッタリング法
 4-1.スパッタリング現象
 4-2.スパッタ装置の構成
 4-3.スパッタリング法の方式

5.スパッタ薄膜の成長と特性
 5-1.微細構造と特性
 5-2.スパッタ薄膜の成長過程
 5-3.反応性スパッタリング法

6.ケーススタディー
 6-1.「作る」編
  ・透明導電膜の成膜条件設定
 6-2.「計る」編
  a)薄膜の化学状態
  b)アルゴントラップ
  c)残留ガスの影響

<質疑応答・個別質問・講師との名刺交換>