034 薄膜技術の基礎〜基礎知識から，装置例，実際の適用例，薄膜の評価方法，トラブル対応まで〜【WEB受講（オンデマンドセミナー）】※10日間何度でも視聴可

セミナー趣旨

薄膜技術は、半導体集積回路やフラットパネルディスプレイなどの電子デバイス製造はもちろんのこと、光学，太陽電池，建材，食品産業，医療と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な薄膜形成装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。ややもすると、薄膜形成装置は単なるブラックボックスで、そのしくみや薄膜形成の原理をよく理解せず、決められた手順だけ守って日々の仕事をこなす状況になりがちです。

　しかしながら、新規の条件で薄膜形成を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。また、薄膜形成プロセスで遭遇する種々のトラブルに際しては、その原因を診断し、適切に対処すること求められます。そのようなときに必要になるのが、薄膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。

　本講座では、薄膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

受講対象・レベル

・半導体・電子デバイス，建材，食品産業，医療などで薄膜形成に関連する研究・開発・製造業務に新規に従事する方
・薄膜に関してある程度の実務経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方　など

必要な予備知識

高等学校程度の物理，化学および数学の知識　があれば理解が進みます。

習得できる知識

１）実務に必要なレベルの真空工学，表面物性工学，プラズマ工学，薄膜工学の知識
２）各種薄膜形成技術の原理，特徴に関する知識 
３）所望の特性を得るための薄膜形成条件を決めるための基礎知識
４）薄膜形成に関するトラブルの診断に必要な基礎知識　など

セミナープログラム

１.成膜技術ための基礎知識

(1)　真空工学
(2)　表面物性工学
(3)　プラズマ工学

２.物理気相成長（PVD）法

(1) 真空蒸着法

a.　原理
b.　真空蒸着法の種類
c.　真空蒸着法の留意事項

(2) スパッタ法

a.　原理　
b.　スパッタ法の種類
c.　スパッタ法で作製される薄膜の特長
d.　スパッタ法の留意事項

３.化学気相成長（CVD）法

(1)　原理
(2)　化学気相成長法の種類
(3)　化学気相成長法による薄膜形成例
(4)　化学気相成長法の留意事項

４.薄膜評価法

(1)　形態観察
(2)　膜組成、膜構造分析
(3)　付着力、膜応力測定
(4)　電気的特性、光学

５.成膜プロセスで遭遇するさまざまなトラブル

(1)　膜質に関するトラブル
(2)　装置に関するトラブル

まとめ

まとめ
質疑・応答

セミナー講師

三重大学　大学院工学研究科　教授・博士（工学）　佐藤 英樹　先生

1996〜2000　アネルバ株式会社（現　キヤノンアネルバ株式会社）　半導体装置事業部　技術担当
上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
2000〜2007　三重大学　大学院工学研究科　電気電子工学専攻　助手
2007〜2023　同　准教授
2023〜現在　 同　教授
2002〜2003　米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校　客員研究員
上記期間中、各種薄膜形成法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事

セミナー受講料

（消費税率10%込）1名：49,500円　同一セミナー同一企業同時複数人数申込みの場合　1名：44,000円 

テキスト：PDF資料（受講料に含む）