高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術

セミナー趣旨

受講対象・レベル

フォトレジスト関係の開発研究者

習得できる知識

〇フォトレジストシステム
〇レジスト材料の分子設計
〇レジスト材料の高感度化

セミナープログラム

セミナー講師

関西大学　化学生命工学部　化学・物質工学科　教授　博士（工学）　工藤 宏人　氏

＜ご略歴＞
2001年3月 東京工業大学大学院総合理工学研究科物質電子化学専攻博士後期課程 修了博士（工学）
2001年4月 ～2002年3月 山形大学大学院 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 講師（中核的研究機関研究員）
2002年4月 ～ 神奈川大学 助手（工学部 応用化学科）
2007年4月 ～ 同 助教 （工学部 物質生命化学科）
2009年4月 ～ 同 准教授
2012年4月 ～ 関西大学 准教授（化学生命工学部 化学・物質工学科）
2016年4月 ～ 同 教授～ 現在に至る

＜ご専門＞
高分子合成化学、有機合成化学、機能性高分子材料の開発

＜受賞歴＞
2007年 高分子学会「日立化成賞」“環状オリゴマーを基盤とした光機能性材料（レジスト、屈折率変換材料）の開発”
2012年 合成樹脂工業協会・学術奨励賞 「UV硬化性樹脂の開発を目的とした光機能性ハイパーブランチポリマーの合成」
2019年 合成樹脂工業協会・学術賞 「高性能なネットワーク構造の創製を目的とした新規硬化反応の開発」

【研究室HP】http://www2.kansai-u.ac.jp/kudo-lab/

セミナー受講料

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