フォトレジスト材料における研究開発事例紹介～問題点および今後の分子設計方法について～

セミナー趣旨

  フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。2017年より極端紫外線(EUV)露光システムが実用化段階に入った。現在、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の開発が必要とされ続けている。
  本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の基本的な合成方法から、最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。

受講対象・レベル

・フォトレジスト材料の開発研究の予定者および開発中の研究者
・新しい、レジスト材料の開発を考えている方

必要な予備知識

大学卒業程度の化学の知識と有機化学や高分子化学の基礎知識が必要

習得できる知識

・レジストシステムの今後の動向が理解できる
・レジスト材料の問題点について把握する。
・レジスト材料の分子設計方法について理解する。
・レジスト材料の開発の方向性について理解する。

セミナープログラム

１．レジスト材料
　　1.1 原理
　　1.2 レジスト材料の例
　　1.3 化学増幅型レジスト
２．ポジ型レジスト材料
　　2.1 材料的な特性
　　2.2 主な応用・用途
３．ネガ型レジスト材料
　　3.1 材料的な特性
　　3.2 主な応用・用途
４．高分子レジスト材料と低分子レジスト
　　4.1 材料的な特性
　　4.2 主な応用・用途
５．レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
　　5.1 レジスト材料の評価項目，評価手法について
　　5.2 レジスト材料の評価方法と開発例
６．最新型レジスト材料
　　6.1 メタルレジスト
　　6.2 EB、EUV用レジスト材料
７．質疑応答

＊途中、お昼休みや小休憩を挟みます。

■講演中のキーワード
・ポジ型・ネガ型レジスト材料
・化学増幅型レジストシステムと非化学増幅型レジストシステム
・分子レジスト
・メタルレジスト
・EUV用レジスト

セミナー講師

 関西大学 化学生命工学部 教授　  工藤 宏人 氏

■ご略歴
・2000年東京工業大学大学院総合理工学研究科物質電子化学専攻博士後期課程 修了、博士（工学）
・2000年～2001年；山形大学大学院　ベンチャービジネスラボラトリー　講師（中核的研究機関研究員）
・2001年～2007年神奈川大学 助手（工学部 応用化学科）。
・2007年~2009年；神奈川大学 助教
・2009年～2012年；神奈川大学 准教授
・2013年～2015年；関西大学准教授
・2015年；関西大学教授～現在に至る
＜Award＞  
◆高分子学会「日立化成賞」“環状オリゴマーを基盤とした光機能性材料（レジスト、屈折率変換材料）の開発”（2007年）
◆合成樹脂工業協会・学術奨励賞
  「ＵＶ硬化性樹脂の開発を目的とした光機能性ハイパーブランチポリマーの合成」（2012年）
◆合成樹脂工業協会・学術賞 合成樹脂工業協会・学術賞
  「高性能なネットワーク構造の創製を目的とした新規硬化反応の研究開発」（2019年）
■ご専門および得意な分野・ご研究
・高分子合成化学
・有機化学
・材料化学
■本テーマ関連学協会でのご活動
・フォトポリマー学会、理事
・ラドテック研究会、元理事

セミナー受講料

1名50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。

受講について

• 配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
  （開催1週前～前日までには送付致します）
  ※準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
  （土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）
• 受講にあたってこちらをご確認の上、お申し込みください。
• Zoomを使用したオンラインセミナーです
  →環境の確認についてこちらからご確認ください
• 申込み時に（見逃し視聴有り）を選択された方は、見逃し視聴が可能です
  →こちらをご確認ください