次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望

セミナー趣旨

受講対象・レベル

・微細加工関係の研究開発に携わる方
・レジストおよびブロック共重合体材料開発に携わる方
・化学や物理化学の基礎知識を有することが望ましいが、必須ではない

習得できる知識

・次世代リソグラフィの技術動向
・レジスト材料開発
・半導体の微細化と極端紫外線（EUV）の基礎について
・EUV化学増幅型レジストシステムと反応機構について
・メタルレジストについて
・ブロック共重合体による自己組織化リソグラフィについて
・電子線リソグラフィについて
・ナノインプリントリソグラフィについて

セミナープログラム

セミナー講師

セミナー受講料

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※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（クレジットカード決済の場合は領収書）は、代表者にS&T会員マイページにて発行いたします（PDF）。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
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※他の割引は併用できません。

受講について

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≪配布資料≫
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（備考）※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
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