プラズマプロセスにおける活性粒子の計測、モニタリングとプロセスの最適化

セミナー趣旨

プラズマを用いたプロセス技術は、現代社会を支える半導体デバイスや機械・電気部品の製造現場で広く利用され、近年では医療や農水産などのバイオ応用についても研究されています。気体の放電現象を利用するプラズマは、その内部において物理・化学的な作用をもたらす数多くの中性活性粒子や荷電粒子が生成され、存在しています。それら粒子の相互的な反応により高度なプラズマプロセスが実現されることから、本技術の継続的な発展や新たな革新にはそれら粒子の計測・モニタリングを通じた反応メカニズムの理解とその最適化が必要です。そこで本講座では、まずプラズマ内における活性粒子の生成・消滅に関わる反応過程など基礎的な理解も深めて頂きながら、それら粒子の分析に利用される各種計測法の原理と具体的な実施例について説明させて頂きます。以上を通じて、プラズマプロセス内の活性粒子の計測とモニタリングを通じた反応メカニズムの理解、さらには得られた知識を基にしたプロセス条件の最適化を検討して頂く契機となることを期待します。

習得できる知識

・プロセスプラズマの基礎的特性について理解することができる。
・プロセスプラズマ内における活性粒子の生成・消滅（反応）過程について理解することができる。
・活性粒子や荷電粒子の各種計測法の原理を理解し、それらの実践方法について知ることができる。
・活性粒子による反応メカニズムを考慮したプロセス条件の最適化について検討することができる。

セミナープログラム

１．プラズマの特性と活性粒子の反応
　1.1 プラズマの基礎特性
　1.2 活性粒子の生成過程
　1.3 活性粒子の気相反応
　1.4 活性粒子の表面反応

２．荷電粒子の各種計測技術の原理と特徴
　2.1 プローブ計測法
　2.2 干渉計測法
　2.3 発光・散乱分光法
　2.4 質量分析法

３．中性活性粒子の各種計測技術の原理と特徴
　3.1 発光分光法
　3.2 吸収分光法
　3.3 蛍光分光法
　3.4 質量分析法

４．活性粒子の計測・モニタリングによるプロセスの最適化と制御
　4.1 プラズマエッチングプロセス
　4.2 プラズマ化学気相堆積プロセス
　4.3 大気圧プラズマプロセス
　4.4 プラズマバイオ応用プロセス

５．まとめ

【質疑応答】

セミナー講師

名城大学　理工学部　教授　博士(工学)　竹田 圭吾 氏

セミナー受講料

  1名につき49，500円（消費税込・資料付き）
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき44，000円（税込）〕

受講について

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