ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング（ALE）の最新技術動向
■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術■
■半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX）■
受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ
★ アーカイブ受講のみもOK！
★ 最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説します！
日時
【Live配信受講】 2025年8月27日（水） 10:30～16:30
【アーカイブ受講】 2025年8月28日(木)～9月3日(水)まで
◎このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
セミナー趣旨
習得できる知識
・プラズマプロセスの基礎知識
・ドライエッチングの基礎知識
・原子層エッチング（ALE)の基礎知識と最新技術動向
セミナープログラム
２．プラズマ科学の基礎
３．代表的なプラズマプロセス装置
４．反応性イオンエッチング（RIE）の基礎
4.1 プラズマ表面相互作用
4.2 表面帯電効果
4.3 シリコン系材料エッチング反応機構
4.4 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
4.5 高アスペクト比（HAR)エッチング概要
５．プラズマCVD概要：原子層堆積（ALD)の基礎として
６．ALDプロセスの概要：原子層エッチング（ALE）の逆過程として
6.1 熱ALD
6.2 プラズマ支援(PA-)ALD
７．ALEプロセスの概要と最新技術動向
7.1 PA-ALE
7.2 熱ALE：リガンド交換
7.3 熱ALE：金属錯体形成
８．半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX）
8.1 プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design)
8.2 仮想計測(VM)とプロセス装置制御
8.3 マテリアルズ・インフォマティクス
8.4 プロセス開発における機械学習（ML)・AIの活用
９．まとめ
□質疑応答□
セミナー講師
＜ご経歴＞
1982年 東京大学理学部物理学科卒業
1987年 同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了
1988年 ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了
1988年-1990年 テキサス大学物理学科核融合研究所（IFS) 研究員
1990年-1998年 IBM ワトソン研究所主任研究員
1998年-2004年 京都大学エネルギー科学研究科・助教授
2004年-2025年 大阪大学工学研究科・教授
2025年-現在 大阪大学エマージングサイエンスデザインR³センター特任教授（常勤）・名誉教授
＜学位＞
理学博士、Ph.D. in mathematics
＜ご専門＞
プラズマ物理学、プラズマプロセス工学、核融合科学
＜学会活動＞
・国際真空科学技術応用国際連合（IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長
・Journal of Plasma Medicine 編集委員長
・ライプニッツ・プラズマ科学技術研究所（ドイツ）科学諮問評議会委員
・プラズマ医療国際学会（IPMS)元会長
・米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)長 等
＜受賞歴＞
2016：プラズマ賞・米国真空学会（AVS)
2012：米国物理学会（APS)フェロー
2011：AVSフェロー
2019：ドイツ研究振興協会メルカトールフェロー
2022：日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学賞 等
【WebSite】http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/
セミナー受講料
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＜1名分無料適用条件＞
※2名様ともE-Mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（クレジットカード決済の場合は領収書）は、代表者にS&T会員マイページにて発行いたします（PDF）。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
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受講について
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≪配布資料≫
PDFテキスト（印刷可・編集不可）
※ライブ配信受講は開催2日前を目安にS＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。
なお、アーカイブ配信受講の場合は、配信日になります。
（備考）※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
受講料
55,000円（税込）/人
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