
先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程
~先進パッケージ開発の経緯を整理~
「3次元集積化プロセス、Fan-Out型パッケージの基礎を再訪
今後の開発動向と市場動向も解説!」
受講可能な形式:【Live配信】のみ
本セミナーでは、これまでの先進パッケージ開発の経緯を整理し、
半導体デバイスチップの三次元集積化プロセス、Fan-Out型パッケージの基礎を再訪しながら、
今後の開発動向と市場動向を展望します。
日時
【Live配信受講】 2025年9月26日(金) 10:30~16:30
セミナー趣旨
本セミナーでは、これらの現状認識に基づき、これまでの先進パッケージ開発の経緯を整理し、半導体デバイスチップの三次元集積化プロセス、Fan-Out型パッケージの基礎を再訪しながら、今後の開発動向と市場動向を展望します。
受講対象・レベル
・最近の先進パッケージの動向に関心のある装置、材料メーカー関連企業の方
・半導体パッケージへ業態転換をお考えのLCDパネル、基板メーカー関連企業の方
・半導体パッケージに関心のある若手から中堅のプロセス技術者
習得できる知識
・半導体デバイスパッケージの役割の変化の推移
・配線階層の境界領域の開発視点
・三次元集積化の基幹プロセスの基礎と現状の課題
・今さら聞けない先進パッケージプロセス構築の留意点
セミナープログラム
1.1 デバイスチップ性能向上とシステムレベル性能向上
1.2 中間領域プロセス技術の進展による価値創出
1.3 CoWoS, SoW-XとWafer Scale Integration
1.4 チップレットインテグレーション市場の開拓
2.三次元集積化プロセスの基礎
2.1 ロジックとメモリのチップ積層SoCデバイス (RDL, Micro-bumping, Mass reflow積層の導入)
2.2 TSVプロセス (CISカメラモジュール, メモリチップ積層からBSPDNへ拡張)
2.3 Hybrid-Bonding (Wafer level/Chip on Wafer bonding, Polymer bonding)
2.4 Si/有機インタポーザー, Siブリッジ (インテグレーション規模の拡大)
2.5 RDL微細化と多層化(SAPからダマシンプロセスの導入へ)
3.Fan-Out(FO)型パッケージの基礎
3.1 市場浸透の現状
3.2 FOプロセスの留意点
3.3 モールド樹脂材料の選択
3.4 3D FOインテグレーション(TMIプロセス選択肢の拡大)
4.Panel Level Process(PLP)高品位化
4.1 モールド樹脂起因の基板反り問題
4.2 マスクレス露光によるレティクルサイズ制約からの解放
4.3 PLP装置開発
5.最近の話題と課題
5.1 どうするGlassインタポ-ザ/基板, どうなるCo-Packaged Optics
5.2 HBM支配構造は続くのか?
5.3 今後の市場動向を見る視点
6.Q&A
セミナー講師
神奈川工科大学 工学部 電気電子情報工学科・非常勤講師 江澤 弘和 先生
<ご経歴>
1985年に(株)東芝入社後、30年以上、先端半導体の微細化プロセス開発及び中間領域プロセスの開発に従事。
2011年に同社メモリ事業部へ転籍後、TSV、WLPを応用したフラッシュメモリ製品開発に従事。
2017年、メモリ事業の分社化に伴い発足した東芝メモリ(株)に移籍。
2018年4月より、神奈川工科大学工学部・電気電子材料担当非常勤講師を兼務。
2019年9月に同社を定年退職。
2020年5月より個人事業ezCoworksを開始、現在に至る。
1985年、京大院・工・磁性物理学講座・修士課程修了
2015年、早大院・情報生産システム研究科・先進材料研究室・博士後期課程修了・博士(工学)取得
2018年4月より、神奈川工科大学・非常勤講師(電気電子材料担当)
日本金属学会、IEEEに所属
<ご専門>
・半導体デバイスの微細配線形プロセス開発
・Bumping、RDL、WLP、TSV等の中間領域プロセス開発
・異種デバイス三次元集積化開発
セミナー受講料
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受講料
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