半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策
～ 汚染のメカニズムと分析・解析・モニタリング方法、目的別の洗浄手法 ～
～ 汚染制御のための洗浄乾燥技術、工場設計、次世代洗浄技術について解説～
【Point】
半導体の微細化が進む今、洗浄技術はより重要な鍵に
■本セミナーでは、半導体デバイスにおける金属・分子汚染の影響とそのメカニズム、分析解析手法とモニタリングについて解説し、従来の洗浄技術から最新の洗浄手法、洗浄以外の汚染、そして次世代の汚染制御技術まで幅広く解説します。
RCA洗浄や薬液系/純水系洗浄のメカニズム、最新の乾燥技術、工場設計やウェーハ保管・移送方法などについても詳しくご紹介します。
ぜひご参加ください。
▼このような方におすすめです▼
・半導体製造に関わる方
・洗浄・クリーン化の基礎から応用まで学びたい方
【キーワード】
洗浄、クリーン化、モニタリング技術、歩留改善、工場設計
日時
【Live配信(アーカイブ配信付)】 2025年6月13日（金） 13:00～16:30
受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
★アーカイブのみの視聴も可能です！（視聴期間：6/16～6/23）
セミナー趣旨
受講対象・レベル
研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
習得できる知識
〇半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
〇最新の洗浄技術を習得できる
セミナープログラム
１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
1.1 クリーン化の重要性
1.2 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1.3 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
1.4 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
２．洗浄技術
2.1 RCA洗浄
2.2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
2.3 洗浄プロセスの動向
2.4 乾燥技術
2.5 最先端の洗浄技術とその問題点
３．その他の汚染制御技術
3.1 工場設計
3.2 ウェーハ保管、移送方法
４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4.1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
4.2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
□質疑応答□
セミナー講師
2019 東北大学大学院工学研究科博士後期課程 修了 博士(工学)(2019.3)
1983富士通株式会社
1991日本電気-NECエレクトロニクスｰルネサスエレクトロニクス
2013 Samsung electronics 常務
2016 オフィスシラミズ開業
＜学協会＞
Selete 自動化ミニエングループ委員
UCT(ウルトラクリーンテクノロジー)編集委員
空気清浄とコンタミネーションコントロール 編集委員
JEITA半導体ロードマップ歩留向上WG リーダ及び委員
SEMI Silicon Wafer委員会TEST METHOD TF 委員
IRDS (SDRJ) 歩留向上委員会メンバー
＜表彰＞
2008年5月 公益社団法人空気清浄協会 感謝状
2013年12月 SEMI JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞
【専門】
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
セミナー受講料
49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 )
1名分無料適用条件
2名様以降の受講者は、申込み前にE-mail案内登録をお済ませください。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※請求書（クレジットカード決済の場合は領収書)）は、代表者にS&T会員マイページにて発行いたします（PDF）。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
| テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 |
1名申込み： 受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円)
定価：本体36,000円＋税3,600円
E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円
※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みの際、備考欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】と記載ください。
※他の割引は併用できません。
受講について
ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
配布資料
- PDFテキスト(印刷可・編集不可)
受講料
49,500円（税込）/人
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