【締切】フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法について

セミナー趣旨

光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について述べる。さらに、酸増殖剤や塩基増殖剤を用いた高感度化の手法、硬化不良対策について筆者らの研究を中心に述べる。

セミナープログラム

※こちらは以前のプログラム内容でございます。

1.光酸発生剤
　1-1　光酸発生剤の構造と特性
　1-2　UV硬化への応用
　1-3　化学増幅レジストへの応用

2.酸増殖剤
　2-1　酸増殖剤の構造と特性　
　2-2　化学増幅レジストの高感度化
　2-3　UV硬化の高効率化・硬化不良対策

3.光塩基発生剤
　3-1　非イオン型光塩基発生剤の特性と応用　
　3-2　イオン型光塩基発生剤の特性と応用

4.塩基増殖剤
　4-1　塩基増殖剤の構造と特性
　4-2　光パターニング材料への応用
　4-3　UV硬化の高効率化・硬化不良対策

5.まとめ

【質疑応答　名刺交換】

セミナー講師

東京理科大学　理工学部　先端化学科　教授　博士(工学)　有光 晃二 氏
【著作】
23.有光晃二監修、「UV・EB硬化技術の最新応用展開-3Dプリンターから住環境まで-」、シーエムシー出版、2014、7月7日発行
【受賞】
1.受賞名:Photopolymer Science and Technology Award 2000
　受賞先:Technical Association of Photopolymers, Japan
　受賞日:平成12年6月
2.受賞名:高分子学会日立化成賞
　受賞先:高分子学会
　受賞日:平成17年9月21日
【ご経歴】
平成9年7月　東京工業大学大学院　総合理工学研究科　電子化学専攻　博士課程中退
同年7月　東京工業大学　資源化学研究所　光機能化学部門　教務職員
平成13年3月　博士(工学)　東京工業大学
同年4月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　助手
平成18年4月　マサチューセッツ工科大学 (Prof. Timothy M. Swager) 博士研究員[平成19年3月まで]
平成19年4月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　講師
平成22年4月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　准教授
平成29年4月　同大学　同学部　先端化学科　教授　(平成29年4月より学科名を先端化学科に改称)
現在に至る

セミナー受講料

【1名の場合】39,600円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。