スパッタリング・蒸着薄膜 の 基礎から膜質向上法・ありがちなトラブル対策

★スパッタ・蒸着薄膜などの真空成膜プロセスを使いこなす！
★膜が出来る仕組みや装置などの基礎から、最適な膜質の調整方法と膜の評価、良くあるトラブル事例と対策までを詳解。

講師

プロマティック株式会社　代表取締役
立命館大学大学院　理工学研究科　客員教授
博士（工学）　福島 和宏 先生
　平成２年～１８年まで、東レ株式会社でフィルムの製造及び加工技術に関する研究・開発に従事。特に、フィルムの表面処理およびroll to roll方式の蒸着ならびにスパッタによる要素技術開発を担当。平成１８年よりプロマティック株式会社を設立し、プラズマ、薄膜、静電気等に関する受託研究及びコンサルティングを行っている。

セミナー開催にあたって

■はじめに：
　真空成膜プロセスを使いこなすためには、その基本を知ると共に、よくあるトラブルの事例やその背景にある本質的な事象と理解することが有効です。本セミナーでは、実際の生産プロセスでみられるトラブルの対策のために解説してきた事例を盛り込んだもので、生産現場でのトラブル解決のヒントになれば幸いです。

■必要な予備知識：
　この分野に興味のある方なら、特に必要はありません

■本セミナーで習得できること（一例）：
　・スパッタの基礎知識
　・スパッタの特徴の活かし方
　・蒸着の特徴の活かし方
　・膜の密着性と剥離モード
　・基材からのアウトガスの影響と対策
　・フィルム基材の熱負け対策

プログラム

１．なぜドライコーティングなのか？
　1.1．機能性材料のコーティング
　1.2．耐環境性
　1.3．凹凸、曲面への対応
　1.4．新規材料の創製

２．なぜ真空装置が必要なのか？
　2.1．大気圧と真空
　2.2．真空の中身
　2.3．「きれい」の基準
　2.4．真空ポンプの種類と特徴

３．膜ができるしくみ
　3.1．なぜくっつくのか？
　3.2．膜になるまでの過程
　3.3．結晶、多結晶、アモルファス

４．原子、分子の作り方
　4.1．蒸着
　　・抵抗加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱
　4.2．スパッタリング
　　・マグネトロンスパッタ、高周波スパッタ、デュアルカソードスパッタ
　4.3．ＣＶＤ
　　・バブリング、気化器

５．スパッタの原理と膜質の調整方法
　5.1．スパッタ粒子密度の把握
　5.2．反跳アルゴンによるダメージ
　5.3．ターゲット組成と膜組成
　5.4．合金および化合物のスパッタ
　5.5．時硬効果と不純物
　5.6．プラズマによる反応支援

６. roll to rollドライコーティングの課題
　6.1．コスト
　6.2．roll基材のアウトガス
　6.3．基材の熱負け
　6.4．静電気

７．基材からのアウトガス対策
　7.1．ヒーター加熱
　7.2．プラズマ処理
　7.3．その他

８．プロセスのモニタの方法と意義
　8.1．真空の組成
　8.2．膜厚
　8.3．最も簡易なプラズマモニタ

９．膜の評価と設計
　9.1．密着力評価の本質
　9.2．硬さとしなやかさ
　9.3．結晶と粒界

＜質疑応答・個別質問・名刺交換＞