半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム

セミナー趣旨

半導体の開発と生産には洗浄技術が必須であり、洗浄装置とプロセスを理解している技術者は様々な課題を解決できます。しかし、その育成は容易ではありません。そこで、半導体洗浄に初めて取り組む場合を前提にして、薬液の働きに関する基礎と最新の洗浄方法を最初に紹介します。その次に、半導体生産工程における「清浄・きれい」の意味を見直し、洗浄プロセスの基本現象として「流れ」に着目します。そこでは、具体的に枚葉式洗浄装置とバッチ式洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点、および、改善するための考え方を知ることを目指します。終わりには、困ったときの視点と対処方法について触れます。

習得できる知識

・「清浄」の定義は、「洗浄」の目的と対象物により異なること
・流れのイメージと観察・計算方法の活用
・先端材料の洗浄方法を組み立てる際に考えるべきこと
・表面をキレイにするための流れの取扱い方
・生産プロセスに共通して潜在する移動現象（流れ・気泡などの動き）と改善方法
・困った時に真っ先に点検すること

セミナープログラム

１．洗う理由：汚れの種類と由来

２．半導体洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学

３．半導体の洗浄に特有のこと

４．先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
　5.1 表面の現象とプロセス（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
　　5.1.1 表面現象、薬液洗浄と物理的洗浄
　　5.1.2 洗浄後の表面、乾燥とパターン倒れ
　　5.1.3 ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
　5.2 流れ、熱、拡散、反応（洗う＝汚れを動かす操作）
　5.3 身近な流れの可視化観察例

６．洗浄機内の流れと反応
　6.1 枚葉式洗浄機
　　6.1.1 水の流れ（観察動画と計算例、回転数、ノズルスイング）
　　6.1.2 化学反応の例（酸化膜エッチング速度の数値解析事例）
　6.2 バッチ式洗浄機
　　6.2.1 水の流れ(観察動画と計算例)
　　6.2.2 水流を最適化した事例（水噴出角度、槽内循環流）
　　6.2.3 ウエハ挿入と取出しの際の汚れの付着と脱落
　　6.2.4 上下に揺動する理由
　6.3 超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）
　　6.3.1 超音波出力と水の動き
　　6.3.2 ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
　　6.3.3 超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点

７．洗浄の評価方法（実験・計算・観察）

８．狭い空間の洗浄
　8.1 液の侵入と濡れ（親水性・疎水性）
　8.2 狭い空間における反応の速度
　8.3 微細パターンの洗浄面積（パターン表面積≫見かけのウエハ面積）

９．まとめ：困った時の視点と対策
　9.1 洗えない時
　9.2 洗えるが残る時

【質疑応答】

セミナー講師

反応装置工学ラボラトリ　代表／横浜国立大学　大学院工学研究院　名誉教授　博士(工学)　羽深 等 氏

セミナー受講料

1名につき55，000円（消費税込・資料付き）
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49，500円（税込）〕

主催者

開催場所

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