半導体デバイスの物理的ウエット洗浄の基礎と最新情報の展開

～半導体デバイス製造の基礎、物理的洗浄（スプレー、ブラシ、超音波 等）と静電気障害への対策～

受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ

日時

【ライブ配信】 2025年9月29日（月）  13:00～16:30
【アーカイブ配信】 2025年10月15日（水）まで受付　■視聴期間：10/15～10/28

【項目】※クリックするとその項目に飛ぶことができます

    セミナー趣旨

    ・半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセス
    ・物理的洗浄（スプレー、ブラシ、超音波 等）に関する工学的な基礎知識の習得
    ・最新学会から得られた最新動向の情報も解説
     
    　近年、半導体デバイスの進化は目覚ましく、その開発スピードは加速の一途をたどっています。本セミナーでは、半導体デバイスにおける物理的ウエット洗浄について、基礎から丁寧にご説明いたします。セミナーでは、まず半導体デバイスの基礎について概説した後、現在の製造プロセスで用いられている物理的洗浄技術について、原理から分かりやすく解説します。さらに、講演者の専門分野である半導体製造時のウエット洗浄時の静電気障害（ESD）対策や、半導体洗浄に関する国際会議の最新動向についてもご紹介いたします。基礎からお話ししますので、半導体デバイス洗浄に携わって3～4年程度の方や、これから半導体洗浄分野への参入を検討されている方にも最適な内容です。

    受講対象・レベル

    半導体デバイス洗浄に携わって3～4年程度の方や、これから半導体洗浄分野への参入を検討されている方

    習得できる知識

    半導体デバイスの物理的洗浄（スプレー、ブラシ、超音波 等）に関する工学的な基礎知識の習得と最新学会から得られた最新動向の情報を得ることができます。

    セミナープログラム

    1．半導体デバイス製造の基礎
    　1.1 半導体デバイスの基礎
    　　① 半導体材料
    　　② p型半導体とn型半導体
    　　③ シリコンウェハ上の電子部品の要素と構造
    　1.2 半導体製造プロセスについて
    　　① CMOS製造を例としたプロセスの説明
    　　② なぜ微細化が必要なのか？
    　1.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
    　　① 化学的洗浄(RCA洗浄)の基礎
    　　② 物理的洗浄の必要性
    　　③ パーティクルのカウント方法
    　　④ 物理洗浄に求められるもの

    2．物理的ウエット洗浄
    　2.1 パーティクルの付着理論
    　2.2 水流を用いた洗浄原理
    　2.3 高圧スプレー洗浄
    　2.4 二流体スプレー洗浄
    　2.5 メガソニック洗浄
    　　① メガソニックスプレー
    　　② 石英振動体型メガソニック洗浄方法
    　2.6 ブラシ洗浄
    　2.7 次世代の物理的洗浄技術

    3．純水スプレー洗浄時の静電気障害
    　3.1 半導体デバイスの洗浄の静電気障害の実例
    　3.2 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
    　3.3 静電気障害の対策方法

    4．近年の学会情報
    　　① IMEC 主催17th Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces （UCPSS 2025）
    　　② The Electrochemical Society 主催International Symposium on Semiconductor Cleaning Science ＆ Technology 　　　（SCST2024）
    　　③ 応用物理学会 界面ナノ化学研究研究報告

    質疑応答

    セミナー講師

    愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 博士（工学）　清家 善之 氏

    ※元旭サナック(株)
    [略歴]
    1990年04月‐2016年03月旭サナック株式会社 技術統括室および品質保証室 室長
    2016年04月～愛知工業大学 工学部電気学科 教授
    [研究内容・キーワード]
    電子デバイス製造プロセス、有機ELデバイス、有機薄膜太陽電池、スプレー、成膜、静電気、洗浄
    [Webページ]
    https://www.seikelab.com/

    セミナー受講料

    49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 )
    　定価：本体45,000円＋税4,500円
    　E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円
    ◆S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について◆

    【E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料】
    2名で49,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須​／1名あたり定価半額の24,750円)
    〈1名分無料適用条件〉
    ※2名様とも、E-Mail案内登録が必須です。
    ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
    ※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
    ※請求書（クレジットカード決済の場合は領収書）は代表者にS&T会員マイページにて発行します（PDF）。
    ※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください)。
    ※他の割引は併用できません。

    【テレワーク応援キャンペーン(1名受講)[オンライン配信セミナー受講限定]】
    1名申込みの場合：受講料39,600円( E-Mail案内登録価格 37,840円)　
    　定価：本体36,000円＋税3,600円
    　E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円
    ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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    受講について

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    ＜配布資料＞
    PDFデータ（印刷可・編集不可）
    ※開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。
    ※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日からダウンロード可となります。

    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。


     

    受講料

    49,500円（税込）/人

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    13:00 ～

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    開催場所

    全国

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    キーワード

    半導体技術   洗浄技術   応用物理一般
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