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〇プラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術についてお話しします。
〇不良発生の抑止及び予知保全、メンテナンス費用の削減や装置機差の低減に資する技術について紹介及び解説します。
セミナー趣旨
現在、半導体はもはや産業上の一部品ではなく、経済安全保障にも関わる極めて重要な「特定重要物資」としての扱いを受けています。半導体製造技術の最先端では2nm、更にはより以細な製造技術の開発も進められつつあります。他方で、車載用マイコンやパワーデバイスを始めとして必ずしも最先端微細製造技術を必要としない半導体デバイスも国内の半導体産業が強みを有しているという観点から重要です。本セミナーでは、後者の製造を担ういわゆるレガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止及び予知保全、メンテナンス費用の削減や装置機差の低減に資する技術について紹介、解説します。
受講対象・レベル
半導体製造工程におけるプラズマプロセスに携わっている方など、本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能です。
必要な予備知識
この分野に興味のある方なら特に予備知識は必要ありません。
習得できる知識
プラズマプロセスにおける異常検出や状態モニタリング手法について知識を習得出来ます。
・パーティクルその場検出
・異常放電その場検出
・プロセスチャンバー状態診断
・アコースティックエミッション(AE)を用いた異常検知
・プラズマプロセス装置チャンバー内部品部材のプラズマ耐性評価 等
セミナープログラム
はじめに
・半導体業界の動向
・半導体製造工程
・製造工程におけるプラズマプロセス
・量産ラインにおける課題
・製造効率、歩留まり
・プラズマエッチングプロセス
プラズマエッチングプロセスにおけるパーティクル
・パーティクル対策の必要性
・パーティクルのその場検出手法
・パーティクルの発生機構
・パーティクルの多量発生メカニズム
プラズマプロセスにおける異常モニタリング・検出技術
・プロセス異常モニタリングの必要性
・異常モニタリング・検出手法
・異常放電
・アコースティックエミッション法によるプロセスモニタリング技術
・プラズマインピーダンスモニタリングによる異常検出・プロセス診断技術
プラズマ耐性材料とその評価技術
・プロセスチャンバー部品部材とパーティクル
・高プラズマ耐性へのニーズ
・部品部材のプラズマ耐性評価手法~セラミックス部材を例として
■ご講演中のキーワード
半導体製造前工程、設備総合効率、歩留まり、プラズマプロセス、プラズマエッチング、異常検知、パーティクル、
異常放電、インピーダンス、アコースティックエミッション
セミナー講師
国立研究開発法人産業技術総合研究所 センシングシステム研究センター 主任研究員 笠嶋 悠司 先生
■ご略歴
2010年独立行政法人産業技術総合研究所に入所、九州センターに配属
(2015年4月の法改正に伴い、現名称は国立研究開発法人産業技術総合研究所)
入所以来、主として半導体量産ラインにおける製造効率向上に資するモニタリング手法の研究開発に携わっております。
具体的には、プラズマエッチング工程におけるパーティクル検出や異常放電検知等、
量産現場で発生しているプロセス異常のその場検出手法やプロセス装置状態モニタリング技術の研究開発に取り組んでおります。
■ご専門および得意な分野・ご研究
プラズマ理工学、高電圧工学
■本テーマ関連学協会でのご活動
応用物理学会
セミナー受講料
【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円
【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円
*学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
受講について
- 配布資料は、印刷物を郵送で1部送付致します。お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
お申込みは4営業日前までを推奨します。
それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。
資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。 - 受講にあたってこちらをご確認の上、お申し込みください。
- Zoomを使用したオンラインセミナーです
→環境の確認についてこちらからご確認ください - 申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です
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