■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術/課題と対策を解説
30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします!
受講可能な形式:【Live配信】or【アーカイブ配信】
日時
【Live配信】 2024年5月22日(水) 13:00~16:30
【アーカイブ配信】 2024年6月4日(火) から配信開始【視聴期間:6/4(火)~6/17(月)】
セミナー趣旨
習得できる知識
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。
セミナープログラム
1.1 プラズマCVD装置の構成
1.2 反応チャンバーの基本構成
2.プラズマCVD装置の用途
2.1 適用アプリケーション
3.プラズマCVD装置のプロセス性能
3.1 SiH4系SiO2膜
3.2 SiH4系SiN膜
3.3 SiH4系SiON膜
3.4 SiH4系a-Si膜
3.5 SiH4系SiC膜
3.6 TEOS系SiO2膜
3.7 液体ソース系SiN膜
4.開発用装置と量産用装置
4.1 プラットフォーム
5.プラズマCVD装置の課題と対策
5.1 高レート化
5.2 プロセスの再現性
5.3 低パーティクル
5.4 チャンバークリーニング
5.5 ウェーハ温度の低温化
5.6 ウェーハ大口径化 など
□質疑応答□
セミナー講師
SPPテクノロジーズ(株)
製造部 次長 兼 資材グループ長 兼 マーケティング部 マネジャー 金尾 寛人 氏
【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月 名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業.
1989年4月 住友金属工業(株)に入社.
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月 住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング(現在)
セミナー受講料
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※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
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※他の割引は併用できません。
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1名申込みの場合:受講料( 定価:37,400円/E-mail案内登録価格 35,640円 )
※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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受講、配布資料などについて
Zoom配信の受講方法・接続確認
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配布資料
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
その他注意事項
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です
開催日時
13:00 ~
受講料
49,500円(税込)/人
※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます
※銀行振込 または、当日現金でのお支払い
開催場所
全国
主催者
キーワード
プラズマ技術 薄膜、表面、界面技術 半導体技術
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プラズマ技術 薄膜、表面、界面技術 半導体技術関連セミナー
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