レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

セミナー趣旨

受講対象・レベル

・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造、販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方
・基本から解説しますので予備知識は不要です。

習得できる知識

リソグラフィの基礎知識、レジスト・微細加工用材料の基礎知識、レジスト・微細加工用材料の要求特性、レジスト・微細加工用材料の課題と対策、レジスト・微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向が得られます。

セミナープログラム

１．リソグラフィの基礎 
　1.1 露光
　　1.1.1 コンタクト露光
　　1.1.2 ステップ＆リピート露光
　　1.1.3 スキャン露光
　1.2 照明方法
　　1.2.1 斜入射（輪帯）照明
　1.3 マスク
　　1.3.1 位相シフトマスク
　　1.3.2 光近接効果補正（OPC）
　　1.3.3 マスクエラーファクター（MEF）
　1.4 レジストプロセス
　　1.4.1 反射防止プロセス
　　1.4.2 ハードマスクプロセス
　　1.4.3 化学機械研磨（CMP）技術 

２．ロードマップとリソグラフィ技術
　2.1 IRDS
　　2.1.1 リソグラフィへの要求特性
　　2.1.2 レジスト・微細加工用材料への要求特性
　2.2 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
　2.3 最先端デバイスの動向

3．レジストの基礎
　3.1 溶解阻害型レジスト
　　3.1.1 g線レジスト
　　3.1.2 i線レジスト
　3.2 化学増幅型レジスト
　　3.2.1 KrFレジスト
　　3.2.2 ArFレジスト
　　3.2.3 化学増幅型レジストの安定化技術
　3.3 ArF液浸レジスト 
　　3.3.1 ArF液浸リソグラフィの特徴
　　3.3.2 ArF液浸レジストの要求特性
　　3.3.3 ArF液浸レジストの設計指針
 
4．レジスト・微細加工用材料の最新技術
　4.1 ダブルパターニング、マルチパターニング
　　4.1.1 リソーエッチ（LE）プロセス用材料
　　4.1.2 セルフアラインド（SA）プロセス用材料
　4.2 EUVリソグラフィ
　　4.2.1 EUVリソグラフィの特徴
　　　4.2.1.1 露光装置
　　　4.2.1.2 光源
　　　4.2.1.3 マスク
　　　4.2.1.4 プロセス
　　4.2.2 EUVレジストの特徴
　　4.2.3 EUVレジストの要求特性
　　4.2.4 EUVレジストの設計指針
　　　4.2.4.1 EUVレジスト用ポリマー
　　　4.4.4.2 EUVレジスト用酸発生剤
　　4.2.5 EUVレジストの課題と対策
　　　4.2.5.1 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
　　　4.2.5.2 ランダム欠陥（Stochastic Effects）
　　4.2.6 EUVレジストの動向
　　　4.2.6.1 分子レジスト
　　　4.2.6.2 ネガレジスト
　　　4.2.6.3 ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
　　　4.2.6.4 フッ素含有ポリマーレジスト
　　4.2.7 EUVメタルレジスト
　　　4.2.7.1 EUVメタルレジストの特徴
　　　4.2.7.2 EUVメタルレジストの性能
　　　4.2.7.3 EUVメタル増感剤
　4.3 自己組織化（DSA）リソグラフィ
　　4.3.1 グラフォエピタキシー
　　4.3.2 ケミカルエピタキシー
　　4.3.3 高χ（カイ）ブロックコポリマー
　4.4 ナノインプリントリソグラフィ
　　4.4.1 加圧方式
　　4.4.2 光硬化方式
　　　4.4.2.1 光硬化材料
　　　4.4.2.2 離型剤
　　　4.4.2.3 露光装置

5．レジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向

　　□質疑応答□

［キーワード］リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料、EUVレジスト

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