CMOSイメージセンサの高画質化に向けた基礎技術と高速化、高感度化の最新技術動向およびその応用

★ CMOSイメージセンサの基礎、裏面照射技術、積層技術、高速フレームレート高感度化技術等、応用と最新技術動向！

★ 最新技術である近赤外線領域の画像化技術と新たな応用の可能性も紹介！

講師

東京大学大学院　情報理工学系　研究科創造情報学専攻
特任研究員 工学博士　角 博文 先生

【講師紹介】
1985年ソニー（株）に入社し、CMOSデバイスの研究開発に従事。1998年よりソニーで最初のCMOSイメージセンサの開発及び商品化に従事した。
2006年から2009年 早稲田大学大学院情報生産システム研究科客員教授
2013年ソニーを退職し同年台湾セミコンダクタマニュファクチュアリング（株）TSMC に入社。
2015年TSMC退職後、東京大学大学院で超高速フレームレートカメラを用いた研究に従事し現在に至る。
2016年より奈良先端科学技術大学院大学で非常勤講師も兼務。

IEEE会員、映像情報メディア学会会員

受講料

1名46,440円(税込（消費税8％）、資料・昼食付)
＊1社2名以上同時申込の場合 、1名につき35,640円
＊学校法人割引 ；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

セミナーポイント

　昨今CMOSイメージセンサは毎年数十億台という規模で生産されている。フィルムカメラ写真の置き換えとして、単に綺麗な写真を鑑賞する目的であるカメラの差異化デバイスとしての撮像素子は、従来マーケットにおいて継続的に確保しているが、今後、画像応用分野で拡大傾向にある。例えば監視を含むセキュリテイ強化、自動車の自動運転への活用等の分野で、画像をデータとして取得しAI等を用いた解析結果を活用する為の、いわゆる画像のIOTデータ取得の唯一の手段として、さらなる実用化研究も盛んに行われている傾向にある。
　これらの背景よりCMOSイメージセンサは今後５年間もさらなる経済的成長性が継続して二桁オーダーのCAGR(年平均成長率)で見込まれている。
　今回、CMOSイメージセンサの基礎技術に関する技術的概要のレビューと、裏面照射技術、積層技術、高速フレームレート高感度化技術等含み、さらにその応用に関する最新技術動向を示す。
また、特に今回最新技術において、日本の国の研究機関から近赤外線領域の画像化技術に関し、世界初の全く新しい技術が研究開発された内容も紹介する。最新技術により新たな応用の可能性に関してもこの場で概要の説明を初めて行う予定である。

■この講座を受講して得られる情報・知見：
　CMOSイメージセンサにおける特に高画質化に関する基本的な技術概要とさらに2017年最新の技術動向が把握できる。
　さらに、単なる技術的観点のみならず、最新のイメージセンサを用いた各種分野への応用、およびそれらのシステム概要にも触れる事で今後の技術的成長戦略および創造的マーケット考察の一つのヒントになる。

セミナー内容

1　CMOSイメージセンサ基礎
　・CCDとCMOSイメージセンサの違い
　・CMOSイメージセンサの基本アーキテクチャ
　・ノイズ
　・ワイドダイナミックレンジ
　・高速化
　・高感度化
　・ADC
　・グローバルシャッタ
　・裏面照射技術
　・積層技術

2　次世代技術
　・ビジョンセンサ
　・フォトンカウント、他
　・近赤外線分光技術とその応用

3　最新CMOSイメージセンサの応用
　・マーケット状況概要
　・高速ビジョンセンサとそのシステム応用
　・その他車載用等含む応用の可能性
　・他

＜質疑応答＞