半導体洗浄技術の要点、工夫と効果の確かめ方

セミナー趣旨

　半導体洗浄に初めて取組む技術者（＆その指導をする方）を想定しています。「半導体のキレイとは何か」を見直し、洗浄の基礎となる現象を理解して、実際の洗浄装置の水と気泡の動きを動画と計算結果で眺めると、要点が直感的に見えてきます。そして、しっかり洗うために境界層を崩す理由とそのための物理的・化学的取扱いを学びます。
　洗浄の要点が掴み切れない、うまく洗いたいが何となく心配、という方にもお薦めです。

セミナープログラム

１．半導体の洗浄の必要性
　・汚染の由来と原因
２．洗浄の４要素
　・「温度、時間、化学、力学」の意味と比重
　・力学が土台
３．半導体洗浄に特有のこと
　・洗浄により実現したい表面
４．半導体洗浄の基礎現象
　・汚れを取り去る手法の原理（脱離、引き剥がし、流れ、熱、拡散）
　・装置内の流れの分類（完全混合、押出流れ、境界層）
　・身近な装置内の流れの例【動画】
５．洗浄機内の流れと反応
　５．１　枚葉式洗浄機
　　・一枚ずつ洗う利点
　　・ウエハ回転による水の動き、水膜の厚さ【動画】
　　・ノズル・スィングの様々な役割【動画】
　　・数値計算で化学反応速度も正確にわかる
　５．２　バッチ式洗浄機
　　・まとめて洗う利点と欠点
　　・水を直角に噴出させるノズル【動画】
　　・排出口を広げて水循環を抑制【動画】
　　・ウエハ出入れ操作と表面汚れの動き【動画】
　５．３　超音波洗浄
　　・表面を音波で揺する利点と欠点
　　・超音波による水と気泡の加速【動画】
６．洗浄効果の調べ方
　　・流れの可視化観察と数値計算（トレーサーの軌跡）
　　・付着微粒子の除去率
　　・微粒子と金属汚染の測定法
７．まとめ＆高清浄面を得る方法
　・要所に薬液を届け、汚染物を持ち去る。
　・そのためには、境界層を崩す。または、境界層内を素早く動かす。

【質疑応答】

セミナー講師

 反応装置工学ラボ 代表 博士(工学) 羽深 等 氏

セミナー受講料

1名につき55，000円（消費税込・資料付き）
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49，500円（税込）〕

受講について

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