＜速習セミナー＞ 先端半導体洗浄

〜 クリーン化・歩留向上技術 〜

★ 汚染の実態とその制御としての洗浄技術、分析技術について分かりやすく解説します！

講師

オフィスシラミズ 半導体コンサルタント　室長　白水 好美 先生

【講師紹介】
1983年4月～1991年6月　富士通株式会社
1991年10月～2013年9月　日本電気株式会社、NECエレクトロニクス㈱、ルネサスエレクトロニクス㈱
2013年11月～2015年12月　Samsung electronics㈱　
2016年1月～現在　オフィスシラミズ
2017年10月～東北大学大学院工学研究科博士課程後期3年在学中

【専門】洗浄技術/ウェーハ表面微量分析技術/クリーンルーム技術/クリーンルーム汚染モニタリング技術

【本テーマ関連学協会での活動】
・応用物理学会員、空気清浄協会会員、SEMI TEST METHOD TF メンバー
・2008年5月　公益社団法人空気清浄協会　感謝状　
・2013年12月　SEMI　JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞

受講料

1名41,040円(税込（消費税8％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合 、1名につき30,240円
＊学校法人割引 ；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

セミナーポイント

■はじめに
　半導体製造においてウェーハを取り巻く環境のクリーン化は不可欠となってきています。最近では半導体材料として多種多様な材料が導入されてきております。微細化が進んで高アスペクト比のトレンチ構造や3D構造が製品化され始めています。今までのクリーン化とは違う視点が必要となってきています。デバイス特性や製造歩留まりに影響を及ぼす各種汚染は集積度の向上と微細化の進展とともに変化してきています。具体的には、環境起因や製造装置起因のパーティクル汚染、メタル汚染、酸性、アルカリ性の分子汚染と有機汚染です。
　本講義では、汚染の実態とその制御としての洗浄技術、分析技術についてお話します。半導体製造ラインのクリーン化の歴史と今後についてわかりやすく説明します。

■受講対象
・半導体洗浄技術者の方
・薬液メーカ、純水メーカ等の材料メーカの方
・ウェーハ製造メーカの方
・ウェーハ保管箱等のメーカの方
・クリーンルーム関連の方
・分析サービス関連および分析装置メーカの方
　以上の技術者の他、マーケテイング、営業の方

■本セミナーに参加して修得できること
・半導体の洗浄技術
・ウェーハ表面、クリーンルーム環境中の微量分析技術
・各種汚染による歩留まり低下要因

セミナー内容

1．序論−汚染が半導体デバイスに与える影響
　1-1　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
　1-2　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
　1-3　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2．洗浄技術
　2-1　RCA洗浄
　2-2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄
　2-3　洗浄プロセスの動向
　2-4　最先端の洗浄技術とその問題点

3．その他の汚染制御技術
　3-1　工場設計
　3-2　ウェーハ保管、移送方法

4．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
　4-1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
　4-2　次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

【質疑応答】