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半導体デバイス集積化開発経緯の整理と今後の先進パッケージ市場・開発動向展望
どうなる三次元集積化、Fan-Out型パッケージ、Panel Level Process(PLP)…etc.
本セミナーでは、チップレット、Siブリッジ、Fan Out型パッケージを構成する基礎と半導体デバイス集積化のこれまでの開発経緯の整理をしつつ、先進パッケージの今後の開発動向及び市場動向を展望します。
本セミナーでは、チップレット、Siブリッジ、Fan Out型パッケージを構成する基礎と半導体デバイス集積化のこれまでの開発経緯の整理をしつつ、先進パッケージの今後の開発動向及び市場動向を展望します。
セミナー趣旨
5月に開催されたIMECの年次イベントにおいて2030年代後半にÅ世代まで進展する半導体デバイス開発のロードマップが提示されました。今後のAI認知深化によるサービス経済社会への移行を脱炭素社会に向けた持続的成長の基盤とするためには、先端半導体デバイスの低消費電力化は不可避であり、素子の微細化プロセスと高機能パッケージの開発は車の両輪と考えられています。
機能分割された複数の小チップを集積化するチップレット構造の先端プロセッサは既にAI、HPC用途に向けて市場に供給されています。一方、米国大手スマートフォンに採用されたInFOはFan-Out型パッケージの本格的な普及の嚆矢となりましたが、依然として多様な製品用途へ浸透していません。FOWLPをパネルへ拡張したPLPは大幅な生産効率向上だけでなく新たなエコシステムの構築に期待が集まっており、進展の速度は遅いながらも、一部の民生品や車載向け製品市場へ浸透しつつあります。
本セミナーでは、チップレット、Siブリッジ、Fan Out型パッケージを構成する基礎プロセスの再訪、半導体デバイス集積化のこれまでの開発経緯の整理を主眼とし、先進パッケージの今後の開発動向及び市場動向を展望します。
機能分割された複数の小チップを集積化するチップレット構造の先端プロセッサは既にAI、HPC用途に向けて市場に供給されています。一方、米国大手スマートフォンに採用されたInFOはFan-Out型パッケージの本格的な普及の嚆矢となりましたが、依然として多様な製品用途へ浸透していません。FOWLPをパネルへ拡張したPLPは大幅な生産効率向上だけでなく新たなエコシステムの構築に期待が集まっており、進展の速度は遅いながらも、一部の民生品や車載向け製品市場へ浸透しつつあります。
本セミナーでは、チップレット、Siブリッジ、Fan Out型パッケージを構成する基礎プロセスの再訪、半導体デバイス集積化のこれまでの開発経緯の整理を主眼とし、先進パッケージの今後の開発動向及び市場動向を展望します。
受講対象・レベル
・先端半導体デバイスパッケージに関心のある装置メーカー、材料メーカーの中堅、若手技術者
・半導体パッケージの動向に関心のあるマーケティング部門の方
・LCDパネル関連メーカーの開発部門の方
習得できる知識
・Micro-Bump、再配線、TSV、Bridge、FOWLP/PLP、Hybrid Bondingなど三次元集積化プロセスの基礎
・配線階層を横断するプロセス開発の視点
セミナープログラム
0.Current Topics
1.中間領域プロセス
1.1 中間領域プロセスの位置付け
1.2 中間領域プロセスの新展開
2.三次元集積化技術
2.1 Logic-Memory integration開発の経緯:
(a) SiインタポーザからSiブリッジへ
(b) Hybrid bondingから3Dチップレットへ
(c) 基幹プロセス(Micro-Bump・RDL・CoC・TSV)の基礎
2.2 微細RDLの多層化
(a) BEOLとRDLのプロセスギャップ
(b) SAPの課題とダマシンプロセスの導入要否検討
(c) 金属配線のElectromigration信頼性の基礎
3.Fan-Out型パッケージ技術
3.1 FOWLPの現状と課題
(a) プロセスオプション(Chip First・RDL First)
(b) 材料の物性指標・FOWLP材料のコストモデル
3.2 Through Mold Interconnect(TMI)プロセス
(a) 3D-FO integrationのコスト低減(Pillar FirstからVia Firstへ)
(b) 感光性モールド樹脂によるプロセス提案
4.Panel Level Process(PLP)の進展
4.1 Hybrid product scheme
4.2 プロセス高品位化と量産化の課題
5.市場概観と今後の開発動向
6.Q&A
1.中間領域プロセス
1.1 中間領域プロセスの位置付け
1.2 中間領域プロセスの新展開
2.三次元集積化技術
2.1 Logic-Memory integration開発の経緯:
(a) SiインタポーザからSiブリッジへ
(b) Hybrid bondingから3Dチップレットへ
(c) 基幹プロセス(Micro-Bump・RDL・CoC・TSV)の基礎
2.2 微細RDLの多層化
(a) BEOLとRDLのプロセスギャップ
(b) SAPの課題とダマシンプロセスの導入要否検討
(c) 金属配線のElectromigration信頼性の基礎
3.Fan-Out型パッケージ技術
3.1 FOWLPの現状と課題
(a) プロセスオプション(Chip First・RDL First)
(b) 材料の物性指標・FOWLP材料のコストモデル
3.2 Through Mold Interconnect(TMI)プロセス
(a) 3D-FO integrationのコスト低減(Pillar FirstからVia Firstへ)
(b) 感光性モールド樹脂によるプロセス提案
4.Panel Level Process(PLP)の進展
4.1 Hybrid product scheme
4.2 プロセス高品位化と量産化の課題
5.市場概観と今後の開発動向
6.Q&A
セミナー講師
神奈川工科大学 工学部 電気電子情報工学科・非常勤講師 江澤 弘和 氏
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
49,500円( E-mail案内登録価格46,970円 )
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額24,750円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:39,600円 ( E-Mail案内登録価格 37,620円 )
※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※他の割引は併用できません。
受講について
Zoom配信の受講方法・接続確認
- 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
- 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
- セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
- セミナー中、講師へのご質問が可能です。
- 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
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配布資料
- PDFテキスト(印刷不可・編集不可)
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