高分子フィルムにおける延伸技術の基礎・構造・物性制御技術と応用展開

セミナープログラム

【10:30-11:45】第1講　フィルム成形における結晶化挙動・分子配向形成時のポイント
東京工業大学　宝田 亘 氏
【著作・受賞・経歴】
＜ご専門＞
　高分子材料の成形加工、成形品の構造解析
＜学協会＞
　成形加工学会、繊維学会
＜ご略歴＞
　2000-2001　金沢工業大学　高度材料科学研究開発センター　博士研究員
　2001-2007　東レ株式会社　繊維研究所／複合材料研究所
　2007-現在　現職
【講演趣旨】
　高分子のフィルムや繊維を延伸することによって、分子が配向すると共に、配向結晶化と呼ばれる特徴的な結晶化が起こり、力学特性、光学的性質、熱物性など物性値も大きく変化する。また、結晶化に伴う物性変化はフィルムの延伸性にも大きな影響を与える。
この講習では、まずは非晶性高分子フィルムの延伸過程における分子配向形成機構について、いくつかの樹脂における実測結果を元に、モデル化の手法も含め解説を行う。その上で、結晶性高分子のフィルム延伸過程において発生する配向結晶化について、PET等における実測結果の解説と、PLAで示された延伸性への影響について解説を行う。
【プログラム】
1．高分子フィルムの延伸工程
　1-1．延伸装置と延伸条件
　1-2．延伸工程で加わる力と変形
　1-3．延伸工程で加わる熱
　1-4．延伸工程における構造変化
　　1-4-1．分子配向
　　1-4-2．結晶化
2．延伸過程における分子配向形成
　2-1．延伸過程における分子配向の形成と配向緩和
　2-2．分子配向形成への延伸温度の影響
　2-3．分子配向形成への延伸速度の影響
　2-4．分子配向のモデル化
　　2-4-1．応力光学則と修正応力光学則
　　2-4-2．Multi-Mode Maxwell Model
　2-5．多段延伸過程における分子配向形成
3．延伸過程における結晶化
　3-1．PETフィルムの延伸過程における結晶化
　　3-1-1．一軸延伸過程
　　3-1-2．二軸延伸過程
　3-2．PLAフィルムの延伸過程における結晶化と延伸性
　　3-2-1．PLAフィルムの延伸過程における結晶化
　　3-2-2．PLAフィルムの多段延伸過程における結晶化と延伸性への影響

【質疑応答　名刺交換】

【12:45-14:00】第2部　高機能フィルムの最新延伸技術とプロセスの最適化
(株)日本製鋼所　富山 秀樹 氏

【講演主旨】
光学フィルムをはじめとするフィルムシート成形において、厳しくなる要求品質を満たすためには、各装置の特性を理解し最適な操作が必要とされる。本講演では、各成形装置による高品質化への技術と対策を紹介する。
【プログラム】
1．フィルムシート成形技術の最近の動向
2．フィルムシート成形装置の概要
　2-1 押出機
　2-2 ダイ
　2-3 キャスティング装置
　2-4 延伸機
　2-5 巻取機
3．延伸工程のフィルム安定化技術
4．延伸プロセスにおける不良問題とその対処法

【質疑応答　名刺交換】

【14:15-15:30】第3部　フィルムの延伸技術とシミュレーションによる解析
日本ゼオン(株)　佐藤 隆 氏
【著作・受賞・経歴】
1987 年　横浜国立大学　工学部　物質工学科　修士課程修了　
2009年　金沢大学工学部　自然化学研究科　　博士後期課程修了(社会人)
1987年　日本ゼオン株式会社入社　現在に至る

専門は、ゴム・プラスチック材料物性
プラスチック成形加工学会　編集委員
【講演趣旨】
　ディスプレイ等に用いられる位相差フィルム等の製造・延伸技術等を概観する。特に、テンター延伸(横延伸)の有限要素シミュレーションや、フィルムキャスト工程の数理モデルによる解析例を紹介する。
【プログラム】
1. 光学フィルムの製造プロセスと用途
　1-1　原料樹脂からロールフィルム製造まで
　1-2　フィルム製造の各種要素プロセス
　　　押出、フィルムキャスト、延伸
　1-3　プラスチックの特性と用途
2.位相差フィルムの光学特性と用途
　2-1　位相差フィルムの分類
　2-2　TN,VA,IPS液晶ディスプレイの補償
　2-3　OLED用途としての反射防止用1/4波長板
3.フィルム延伸のシミュレーション技術
　3-1　高次構造と応力-光学側
　3-2　横延伸の有限要素シミュレーション
　3-3　屈折率楕円体予測
4.フィルムキャスト工程の解析
　4-1　1次元ニュートン流体モデル
　4-2　1次元Power-Low流体モデル
　4-3　断面2次元ニュートン流体モデル

【質疑応答】

セミナー講師

第1講　東京工業大学　大学院理工学研究科　有機・高分子物質専攻　助教　宝田 亘 氏
第2講　(株)日本製鋼所　広島製作所　技術開発部　部長　博士（工学）　富山 秀樹 氏
第3講　日本ゼオン(株)　精密光学研究所　主席研究員　博士(工学)　佐藤 隆 氏

セミナー受講料

【1名の場合】44,000円(税込、昼食、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。
※2名以上ご要望の場合は2名を選択し、備考欄にその旨お書きくださいませ。