高性能圧電体膜の開発とMEMS応用

セミナー趣旨

富士フイルムにて圧電材料そのものの開発、製造装置の設計さらにはMEMS事業をゼロから立ち上げてきた筆者が、経験を元に学術的な視点だけではなく実際に使える現場視点から、圧電MEMS材料の開発と応用を、R&Dの進め方、事業化のための考え方、ノウハウを伝授いたします。圧電材料、MEMS研究者だけではなく、研究企画の参考になります。

セミナープログラム

0．自己紹介
1．はじめに
　1-1　圧電材料とは？
　1-2　圧電材料とMEMSの関連
　1-2　国内での圧電材料の開発の歴史
2．圧電材料の形成方法の違い
　2-1　ゾルゲル法、MOCVD法、スパッタ法、アロゾルデポジション法
　2-2　なぜスパッタ法を選んだか？
　　　　　価格、タクト、品質などに対する考え方
3．スパッタ法における課題と対策
　3-1　ブレークスルーのポイント（何が問題で実用化が難しかったか）
　3-2　組成ずれに関する考察
　3-3　安定性に関する考察
　3-3　パーティクルに対する考え方
　3-4　MEMS用圧電体膜形成装置はいかにあるべきか？
4．Nb-PZT材料の開発
　4-1　材料開発のコンセプト
　4-2　スパッタ法における材料開発のテクニック
　4-3　Nb-PZT膜の特徴
　4-4　分極レスの特徴によるメリット
5.　圧電膜のMEMS応用
　5-1　応用を考える際にどうするか？
　5-2　インクジェットヘッドへの応用
　5-3　マイクロミラーへの応用
　5-4　超音波利用素子への応用
　5-5　振動発電素子への応用
6.　終わりに

セミナー講師

藤井技術士事務所長　博士（工学）藤井 隆満 氏
【略歴】
・山口大学院博士後期課程物質工学専攻　　博士（工学）
・セントラル硝子株式会社 ガラス研究所：開発から工場生産まで経験。量産までのイメージを持って開発を行うことの必要性を実体験として学ぶ。
・株式会社KRI　50社以上の企業様へR&D提案を行い、～1億円/年のプロジェクトを推進。提案のいくつかは事業化成功。ゼロから1を産むアイデアの出し方、事業化につながりやすい筋の良い研究テーマの選定に強みもつ。
「MOCVD法によるPZT膜の形成およびMEMSへの適用」プロジェクトリーダー
「ゾルゲル法によるPZT膜の形成」
・2000年　富士フイルム株式会社
　高性能な圧電体薄膜（Nb-PZT）を開発し、圧電/MEMS業界にて世界的に評価されている。この材料をシリコンバレーにて実用化。同時に量産性の高い新しい成膜装置を開発。社内にてMEMS分野の新しいテーマを立ち上げ事業化推進。
・2008年　技術士（応用理学部門）取得
・2019年　4月 藤井技術士事務所設立

セミナー受講料

27,500円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。