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主催者 | (株)AndTech (&Tech) |
キーワード | 高分子・樹脂材料 |
開催エリア | 東京都 |
開催場所 | 【千代田区】CMC+AndTech FORUM |
交通 | 【JR・地下鉄】神田駅 【地下鉄】大手町駅 |
光酸発生剤と光塩基発生剤を用いた
感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について解説!
セミナー講師
東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 博士(工学) 有光 晃二 氏
【著作】
23.有光晃二監修、「UV・EB硬化技術の最新応用展開-3Dプリンターから住環境まで-」、シーエムシー出版、2014、7月7日発行
【受賞】
1.受賞名:Photopolymer Science and Technology Award 2000
受賞先:Technical Association of Photopolymers, Japan
受賞日:平成12年6月
2.受賞名:高分子学会日立化成賞
受賞先:高分子学会
受賞日:平成17年9月21日
【ご経歴】
平成9年7月 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 電子化学専攻 博士課程中退
同年7月 東京工業大学 資源化学研究所 光機能化学部門 教務職員
平成13年3月 博士(工学) 東京工業大学
同年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 助手
平成18年4月 マサチューセッツ工科大学 (Prof. Timothy M. Swager) 博士研究員[平成19年3月まで]
平成19年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 講師
平成22年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 准教授
平成29年4月 同大学 同学部 先端化学科 教授 (平成29年4月より学科名を先端化学科に改称)
現在に至る
セミナー受講料
【1名の場合】39,600円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。
セミナー趣旨
光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について述べる。さらに、酸増殖剤や塩基増殖剤を用いた高感度化の手法、硬化不良対策について筆者らの研究を中心に述べる。
セミナープログラム
※こちらは以前のプログラム内容でございます。
1.光酸発生剤
1-1 光酸発生剤の構造と特性
1-2 UV硬化への応用
1-3 化学増幅レジストへの応用
2.酸増殖剤
2-1 酸増殖剤の構造と特性
2-2 化学増幅レジストの高感度化
2-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策
3.光塩基発生剤
3-1 非イオン型光塩基発生剤の特性と応用
3-2 イオン型光塩基発生剤の特性と応用
4.塩基増殖剤
4-1 塩基増殖剤の構造と特性
4-2 光パターニング材料への応用
4-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策
5.まとめ
【質疑応答 名刺交換】