半導体洗浄の基礎と次世代半導体の洗浄課題、洗浄・乾燥の最新技術

セミナー趣旨

  半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。
  具体的には、半導体洗浄装置や洗浄薬液に関する基礎的な「洗浄」技術について説明します。洗浄後は濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があり、その「乾燥」技術について説明します。その後、最先端半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題と、最新の「洗浄」と「乾燥」技術を紹介します。
  本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドをわかりやすく紹介します。

受講対象・レベル

半導体洗浄関連の業務にたずさわって1～3年の若手技術者や新人～中堅の方、また半導体の洗浄技術に興味のある方なら、
どなたでも受講可能です。

必要な予備知識

この分野に興味のある方なら、特に予備知識は必要ありません。

習得できる知識

・半導体製造における洗浄の役割を基礎から理解できる
・半導体洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる
・先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる
など

セミナープログラム

１．半導体ウェット洗浄の必要性
　1-1　半導体製造フローと洗浄の位置付け
　1-2　洗浄装置の役割
　1-3　洗浄の除去対象
２．半導体ウェット洗浄の方法・原理
　2-1　洗浄装置の種類
　2-2　異物の除去
　2-3　異物の付着抑制
３．洗浄の技術トレンド
　3-1　洗浄と半導体の歴史
　3-2　従来の洗浄技術
４．乾燥の技術トレンド
　4-1　乾燥と半導体の歴史
　4-2　従来の乾燥技術
５．次世代半導体の洗浄課題
　5-1　半導体デバイスのトレンド
　5-2　洗浄の技術的課題
　5-3　洗浄装置に求められる機能
６．先端技術・乾燥技術
　6-1　最新の洗浄技術
　6-2　最新の乾燥技術
　6-3　シミュレーション技術
７．まとめ
＜質疑応答＞

＊途中、小休憩を挟みます。

セミナー講師

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ R&D戦略統轄部 アライアンス推進部 先端プロセス開発課    塚原 隆太 氏

セミナー受講料

1名40,700円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき29,700円
＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。

主催者

開催場所

受講について

• 配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
  （開催1週前～前日までには送付致します）
  ※準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
  （土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）
• 受講にあたってこちらをご確認の上、お申し込みください。
• Zoomを使用したオンラインセミナーです
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• 申込み時に（見逃し視聴有り）を選択された方は、見逃し視聴が可能です
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