薄膜作製の基礎とトラブル対策【大阪開催】
開催日 |
10:30 ~ 16:30 締めきりました |
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主催者 | (株)R&D支援センター |
キーワード | 応用物理 電気・電子技術 |
開催エリア | 大阪府 |
開催場所 | 【大阪市淀川区】滋慶医療科学大学院大学 |
交通 | 【JR・地下鉄】新大阪駅 |
真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説!
若手や薄膜作製初学者の方にも最適な講座!
講師
三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授 博士(工学) 佐藤 英樹 氏
【ご専門】 薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学
【ご略歴】
1996〜2000 アネルバ(株)(現 キヤノンアネルバ) 半導体装置事業部 技術担当
量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2007〜現在 同 准教授
2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
各種成膜法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事
【ご所属学会】
応用物理学会、日本真空学会、日本表面科学会、
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会 会員
受講料
R&D会員登録していただいた場合、通常1名様申込で49,980円(税込)から
★1名で申込の場合、47,250円(税込)へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,980円(2人目無料)です。
(まだR&D会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
受講対象・レベル
・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
必要な予備知識
高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します
習得できる知識
・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
趣旨
スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
プログラム
1.成膜技術に必要な真空・表面物性工学
1-1. 気体分子運動論の基礎
1-2. 真空工学の基礎
1-3. 表面物性工学の基礎
2.真空蒸着法
2-1. 真空蒸着法の原理
2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項
3.スパッタ法
3-1. スパッタ法の原理
3-2. スパッタ法の種類と装置例
3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項
4.化学気相成長(CVD)法
4-1. CVD法の原理
4-2. CVD法の種類と装置例
4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
4-4. CVD法を適用する際の留意事項
5.薄膜評価法
5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
5-2 膜組成、膜構造
5-3 付着力、膜応力
5-4 電気的特性、光学的特性
6.成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
6-1 膜質に関するトラブル
6-2 装置に関するトラブル
【質疑応答・名刺交換】
キーワード 薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー,研修,講習