１日速習！よくわかる、半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

セミナー趣旨

習得できる知識

セミナープログラム

１．洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？

２．一般の洗浄
　　（洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学）

３．半導体の洗浄に特有のこと
　　（何故、そこまでして洗うのか）

４．先端技術情報
　　（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象
　　（薬液と流れの効果）
　5.1 表面の現象とプロセス
　　　（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
　5.2 流れ、熱、拡散、反応
　　　（洗う＝汚れを動かす操作）
　5.3 装置内流れの種類
　　　（完全混合、押出流れ、境界層）
　5.4 流れの可視化観察
　　　（「流れ」と「拡散」の感覚を動画で）

６．洗浄機内の流れと反応
　6.1 枚葉式洗浄機
　　6.1.1 水の流れ（観察動画と計算例）
　　6.1.2 化学反応の例（表面反応もここまで分かる）
　6.2 バッチ式洗浄機
　　6.2.1 水の流れ(観察動画と計算例)
　　6.2.2 水流を最適化（入口と出口で変わる）
　6.3 超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）

７．洗浄の評価方法

８．狭い空間の洗浄

９．まとめ：困った時の視点と対策（境界層を壊そう！）

　　□質疑応答□

セミナー講師

横浜国立大学 名誉教授
反応装置工学ラボ・代表　羽深 等　氏

【主な経歴】
新潟大学理学部化学科　理学士（1979年3月）
京都大学大学院理学研究科化学専攻　理学修士（1981年3月）
広島大学大学院工学研究科　博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業株式会社　1981年4月～2000年3月
横浜国立大学工学部物質工学科　助教授　2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　教授　2002年4月～2022年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　名誉教授　2022年４月～
反応装置工学ラボ　代表　2022年4月～

【研究分野】
半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析）
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチング・装置クリーニングのプロセス開発と解析
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析

【WebSite】
反応装置工学ラボ　https://www.rare-lab.com/

セミナー受講料

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