ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング(ALE)の最新技術動向
開催日 |
10:30 ~ 16:30 締めきりました |
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主催者 | サイエンス&テクノロジー株式会社 |
キーワード | 半導体技術 プラズマ技術 薄膜、表面、界面技術 |
開催エリア | 全国 |
開催場所 | Live配信セミナー ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
ドライエッチング、ALE、ALD、プラズマCVD、
DXまで徹底解説!
基礎となる物理化学原理、表面反応機構から最新技術動向、マテリアルズ・インフォマティクスや機械学習まで!
特にビジネスとしての動きが速い半導体業界。最新技術を俯瞰的に学ぶ!
■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術
■原子層エッチング(ALE:アトミックレイヤーエッチング)技術
■プラズマCVD、原子層堆積(ALD)プロセス、デジタル・トランスフォーメーション(DX)
セミナー講師
大阪大学 大学院工学研究科 教授 浜口 智志 氏
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
49,500円( E-mail案内登録価格46,970円 )
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額24,750円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 )
※1名様でLive配信/WEBセミナーをお申込みの場合、上記キャンペーン価格が自動適用になります。
※他の割引は併用できません。
受講について
Zoom配信の受講方法・接続確認
- 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
- 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
- セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
- セミナー中、講師へのご質問が可能です。
- 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
≫ テストミーティングはこちら
配布資料
- PDFデータ(印刷可/編集は不可)
※PDFデータ、セミナー開催日の2日前を目安にWebからダウンロード可能になります。
セミナー趣旨
本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング(ALE)技術について、表面反応機構から最新技術動向までを詳しく紹介する。関連項目として、プラズマCVDと原子層堆積(ALD)プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション(DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。
習得できる知識
- プラズマプロセスの基礎知識
- ドライエッチングの基礎知識
- 原子層エッチング(ALE)の基礎知識と最新技術動向
セミナープログラム
- 背景
- プラズマ科学の基礎
- 代表的なプラズマプロセス装置
- 反応性イオンエッチング(RIE)の基礎
- プラズマ表面相互作用
- 表面帯電効果
- シリコン系材料エッチング反応機構
- 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
- 高アスペクト比(HAR)エッチング概要
- プラズマCVD概要:原子層堆積(ALD)の基礎として
- ALDプロセスの概要:原子層エッチング(ALE)の逆過程として
- 熱ALD
- プラズマ支援(PA-)ALD
- ALEプロセスの概要と最新技術動向
- PA-ALE
- 熱ALE:リガンド交換
- 熱ALE:金属錯体形成
- 半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)
- プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design)
- 仮想計測(VM)とプロセス装置制御
- マテリアルズ・インフォマティクス
- プロセス開発における機械学習(ML)・AIの活用
- まとめ
□質疑応答□