プラズマCVD(化学気相堆積)装置による高品質薄膜の成膜技術、及び量産化対応【Live配信】
開催日 |
13:00 ~ 16:30 締めきりました |
---|---|
主催者 | サイエンス&テクノロジー株式会社 |
キーワード | 半導体技術 薄膜、表面、界面技術 プラズマ技術 |
開催エリア | 全国 |
開催場所 | Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
プラズマCVD(化学気相堆積)装置の技術/課題と対策を、
装置メーカーの立場から解説
30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします!
セミナー講師
SPPテクノロジーズ(株) マーケティング部 マーケティングコミュニケーショングループ長 金尾 寛人 氏
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
44,000円( E-mail案内登録価格41,800円 )
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 44,000円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額22,000円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 )
※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※他の割引は併用できません。
受講について
Zoom配信の受講方法・接続確認
- 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
- 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
- セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
- セミナー中、講師へのご質問が可能です。
- 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
≫ テストミーティングはこちら
配布資料
- PDFデータ(印刷可/編集は不可)
※PDFデータは、セミナー開催日の2日前を目安にマイページからダウンロード可能になります。
セミナー趣旨
当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。
習得できる知識
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。
セミナープログラム
- プラズマCVD装置の基本構造
- プラズマCVD装置の構成
- 反応チャンバーの基本構成
- プラズマCVD装置の用途
- 適用アプリケーション
- プラズマCVD装置のプロセス性能
- SiH4系SiO2膜
- SiH4系SiN膜
- SiH4系SiON膜
- SiH4系a-Si膜
- SiH4系SiC膜
- TEOS系SiO2膜
- 液体ソース系SiN膜
- 開発用装置と量産用装置
- プラットフォーム
- プラズマCVD装置の課題と対策
- 高レート化
- プロセスの再現性
- 低パーティクル
- チャンバークリーニング
- ウェーハ温度の低温化
- ウェーハ大口径化 など
□質疑応答□