プラズマCVD（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、及び量産化対応【Live配信】

セミナー趣旨

　当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。

習得できる知識

プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。

セミナープログラム

1. プラズマCVD装置の基本構造
   1. プラズマCVD装置の構成
   2. 反応チャンバーの基本構成
2. プラズマCVD装置の用途
   1. 適用アプリケーション
3. プラズマCVD装置のプロセス性能
   1. SiH4系SiO2膜
   2. SiH4系SiN膜
   3. SiH4系SiON膜
   4. SiH4系a-Si膜
   5. SiH4系SiC膜
   6. TEOS系SiO2膜
   7. 液体ソース系SiN膜
4. 開発用装置と量産用装置
   1. プラットフォーム
5. プラズマCVD装置の課題と対策
   1. 高レート化
   2. プロセスの再現性
   3. 低パーティクル
   4. チャンバークリーニング
   5. ウェーハ温度の低温化
   6. ウェーハ大口径化　　など

□質疑応答□

セミナー講師

SPPテクノロジーズ(株) マーケティング部 マーケティングコミュニケーショングループ長　金尾 寛人　氏

セミナー受講料

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44,000円( E-mail案内登録価格41,800円 )
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2名で 44,000円 (2名ともE-mail案内登録必須／１名あたり定価半額22,000円)

【1名分無料適用条件】
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※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
１名申込みの場合：35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 )
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受講について

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配布資料

• PDFデータ（印刷可／編集は不可）
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