半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策
~ 汚染のメカニズムと分析・解析・モニタリング方法、目的別の洗浄手法 ~
~ 汚染制御のための洗浄乾燥技術、工場設計、次世代洗浄技術について解説~
受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
◆Point◆
半導体の微細化が進む今、洗浄技術はより重要な鍵に。
本セミナーでは、半導体デバイスにおける金属・分子汚染の影響とそのメカニズム、分析解析手法とモニタリングについて解説し、従来の洗浄技術から最新の洗浄手法、洗浄以外の汚染、そして次世代の汚染制御技術まで幅広く解説します。
RCA洗浄や薬液系/純水系洗浄のメカニズム、最新の乾燥技術、工場設計やウェーハ保管・移送方法などについても詳しくご紹介します。
ぜひご参加ください。
▼このような方におすすめです▼
・半導体製造に関わる方
・洗浄・クリーン化の基礎から応用まで学びたい方
キーワード:洗浄、クリーン化、モニタリング技術、歩留改善、工場設計
セミナー趣旨
受講対象・レベル
研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
習得できる知識
〇半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
〇最新の洗浄技術を習得できる
セミナープログラム
1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
1.1 クリーン化の重要性
1.2 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1.3 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
1.4 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
2.洗浄技術
2.1 RCA洗浄
2.2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
2.3 洗浄プロセスの動向
2.4 乾燥技術
2.5 最先端の洗浄技術とその問題点
3.その他の汚染制御技術
3.1 工場設計
3.2 ウェーハ保管、移送方法
4.次世代の汚染制御の課題と提言
4.1 新洗浄乾燥技術
4.2 次世代の洗浄、汚染制御の課題と提言
□質疑応答□
セミナー講師
オフィスシラミズ 室長 白水 好美 氏
略歴
1983年 4月-1991年 富士通
1991年10月-2013年 9月 日本電気-NECエレクトロニクスールネサスエレクトロニクス
2013年11月-2015年12月 Samsung electronics 常務待遇
2016年1月 オフィスシラミズ開業
専門
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
セミナー受講料
49,500円
1名分無料適用条件
2名様以降の受講者は、申込み前にE-mail案内登録をお済ませください。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※請求書(クレジットカード決済の場合は領収書))は、代表者にS&T会員マイページにて発行いたします(PDF)。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
| テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 |
1名申込み: 受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円)
定価:本体36,000円+税3,600円
E-Mail案内登録価格:本体34,400円+税3,440円
※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※他の割引は併用できません。
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■■■受講人数ごとのお申込み例■■■
1名で受講の場合:37,840円(税込) ※テレワーク応援キャンペーン/E-mail案内登録の場合2名で受講の場合:49,500円(税込) ※2名同時申込みで1名分無料:1名あたり24,750円(税込) |
主催者
開催場所
全国
備考
配布資料
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
オンライン配信
ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)