スパッタリングの基礎から膜品質の向上・トラブル対策~原理から最新動向まで学び現場での品質向上を目指す~
〇スパッタリングの基礎・要素技術から、反応性スパッタなどの高速成膜技術や最新カソード技術、膜厚の均一化・内部応力の低減・密着性向上などのテクニック、最新トピックスまで。
〇様々な産業で活用されているスパッタリング技術を包括的・俯瞰的に解説!
セミナー趣旨
スパッタ技術は、再現性が良く、小さい基板から大きい基板まで均一性に優れ、低温においても密着性良く成膜出来る重要な技術であり、フイルム、ガラス、セラミック基板、最近では半導体用のウエハーなど多くの製品に使われている。スパッタ膜の機能、特性も高度化、多機能化したために、成膜トラブルも多くなっている。スパッタの原理を確認し、さらに最新カソード技術を紹介しながら、現場の品質向上について解説する。
受講対象・レベル
・スパッタ膜のコスト低減、機能向上などを求めている方
・本テーマに興味のある方なら、どなたでも
必要な予備知識
・高校卒業程度の化学、物理の知識
・この分野への興味がある方
習得できる知識
・スパッタの基礎知識、成膜パラメーターの最適化、重要度
・スパッタ膜のトラブル対処法
など
セミナープログラム
1.スパッタリングの理解とノウハウ
1-1 スパッタの原理
1-2 スパッタと蒸着の違い
1-3 スパッタ装置
1-4 成膜ファクターと膜の性質
2.スパッタリングでの重要な要素技術
2-1 パルス技術
2-2 マグネトロン技術
3.高速成膜技術
3-1 反応性スパッタ
3-2 ヒステリシス
3-3 プラズマエミッションコントロール
4.最新カソード技術
4-1 デュアルカソードの特徴
4-2 ロータリーカソードの長所、短所
4-3 AC放電
4-4 低ダメージカソード
5.スパッタトラブル対策
5-1 アーキングを減らすには
5-2 アノード消失とは?
5-3 膜厚均一化対策
5-4 内部応力低減策
5-5 密着性向上
6.最新トピックスおよびスパッタ応用製品
7.受講者からの質問回答及び相談
*途中、お昼休みや小休憩を挟みます。
セミナー講師
有限会社アーステック 代表取締役/名古屋大学 客員教授 小島 啓安 氏
■ご略歴
キヤノン株式会社にて、半導体露光装置の光学膜開発を5年ほど従事、
その後旭硝子株式会社(現・AGC株式会社)にて、自動車用、建築用、電子基板用のスパッタによる薄膜開発を行う。
2003年に有限会社アーステック設立し、薄膜コンサルタントを開始。
2012年に名古屋大学にて学位取得、同年より名古屋大学客員教授を務める。
セミナー受講料
【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 50,600円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 56,100円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円
*学校法人割引:学生、教員のご参加は受講料50%割引。
主催者
開催場所
全国
受講について
- 配布資料は、印刷物を郵送で1部送付致します。お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
お申込みは4営業日前までを推奨します。
それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。
資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。 - 受講にあたってこちらをご確認の上、お申し込みください。
- Zoomを使用したオンラインセミナーです
→環境の確認についてこちらからご確認ください - 申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です
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