流れの可視化画像で基礎から学ぶ半導体洗浄技術~洗浄プロセスの基礎となる現象理解から困った時の視点と対策まで~

●現象の基礎からしっかりと解説します。ご興味がある方は、ご参加ください。
●洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点が直感的に見えるようになることを目指します。

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    セミナー趣旨

      半導体の製造と開発には洗浄技術が必須であり、洗浄装置を理解している技術者は様々な課題を解決できますが、その育成は容易ではありません。そこで、半導体洗浄に初めて取り組む方を前提にして、基礎から説明します。半導体製造工程における「清浄・きれい」の意味を見直し、洗浄プロセスの基礎となる現象を理解します。そして、具体的な洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点を知ることを目指します。終わりには、困ったときの視点と対処方法について触れます。

    受講対象・レベル

    ・半導体洗浄をこれから初めて担当する方
    ・洗浄というものが何となく分からない方
    ・対策・提案が的を得ているのか不安な方
    ・洗浄技術に対する視点・指針を身に付けたい方
    ・何をどのように考えたらよいか知りたい方

    必要な予備知識

    ・予備知識から紹介しますので、特に必要なことはありません。ただし、下記の知識があると、理解がさらに深まります。
    ・流れの可視化写真を見た経験
    ・基礎的な化学工学(熱・流れ・拡散)
    ・川などの水の流れをじっくり眺めた経験

    習得できる知識

    ・流れの見方と設計指針
    ・先端材料の洗浄方法を組むための要素
    ・目的に合わせた「清浄」の定義
    ・キレイにするための表面と流れの取扱い方
    ・生産プロセスに共通して潜在する化学工学現象(流れ・気泡などの動きと設計)
    ・困った時に真っ先に点検すること

    セミナープログラム

    1)洗う理由:汚れの種類と由来
    2)半導体洗浄の4要素:温度、時間、化学、力学
    3)半導体の洗浄に特有のこと
    4)先端技術情報(半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)
    5)半導体洗浄の基礎現象(薬液と流れの効果)

      5-1)表面の現象とプロセス(付着・脱離・引き剥がす・乾かす)
       -1)表面現象、薬液洗浄と物理的洗浄
       -2)洗浄後の表面、乾燥とパターン倒れ
       -3)ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
      5-2)流れ、熱、拡散、反応(洗う=汚れを動かす操作)
      5-3)身近な流れの可視化観察例
    6)洗浄機内の流れと反応
      6-1)枚葉式洗浄機
       -1)水の流れ(観察動画と計算例、回転数、ノズルスイング)
       -2)化学反応の例(酸化膜エッチング速度の数値解析事例)
      6-2)バッチ式洗浄機
       -1)水の流れ(観察動画と計算例)
       -2)水流を最適化した事例(水噴出角度、槽内循環流)
       -3)ウエハ挿入と取出しの際の汚れの付着と脱落
       -4)上下に揺動する理由
      6-3)超音波の働き、水と気泡の動き(観察動画)
       -1)超音波出力と水の動き
       -2)ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
       -3)超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点
    7)洗浄の評価方法(実験・計算・観察)
    8)狭い空間の洗浄

      8-1)液の侵入と濡れ(親水性・疎水性)
      8-2)狭い空間における反応の速度
      8-3)微細パターンの洗浄面積(パターン表面積≫見かけのウエハ面積)
    9)まとめ:困った時の視点と対策
      9-1)洗えない時
      9-2)洗えるが残る時


    *途中、お昼休みや小休憩を挟みます。


    ■講演中のキーワード
    流れの可視化、境界層、枚葉式、バッチ式、超音波

    セミナー講師

     反応装置工学ラボラトリ 代表   羽深 等 氏

    ■ご略歴
    1981年3月 京都大学大学院理学研究科修士課程化学専攻 修了(理学修士)
    1981年4月~2000年3月 信越化学工業株式会社
    1996年9月 広島大学大学院工学研究科 博士(工学)
    2000年4月 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授
    2002年4月~2022年3月 横浜国立大学大学院工学研究院 教授
    2022年4月 横浜国立大学大学院工学研究院 名誉教授
    2022年4月 反応装置工学ラボラトリ 代表
    ■ご専門および得意な分野・ご研究
    分野:半導体結晶材料製造技術に関わる化学工学研究
    物質:シリコン(Si)、炭化ケイ素(SiC)、GaAsP、InPなど
    ・製造技術の例:半導体ウエハ洗浄装置、薄膜形成(熱CVD、プラズマCVD)の装置とプロセス、
       ノンプラズマドライエッチング、多成分系有機物表面汚染挙動解析
    ・取組みの視点:実験と解析、プロセスと装置の設計と開発、熱流体と化学反応の活用、
       表面吸着・脱離・反応の測定・解析と設計
    ■本テーマ関連学協会でのご活動
    化学工学会(シニア会員)、応用物理学会、日本結晶成長学会、米国化学会、米国電気化学会(名誉会員)、
    特定非営利活動法人YUVEC理事長

    セミナー受講料

    【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 50,600円(税込(消費税10%)、資料付)
    *1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円

    【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 56,100円(税込(消費税10%)、資料付)
    *1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円

    *学校法人割引:学生、教員のご参加は受講料50%割引。

    受講について

    • 配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
      (開催1週前~前日までには送付致します)
      ※準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
      (土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)
    • 受講にあたってこちらをご確認の上、お申し込みください。
    • Zoomを使用したオンラインセミナーです
      →環境の確認についてこちらからご確認ください
    • 申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です
      →こちらをご確認ください

     

    受講料

    50,600円(税込)/人

    ※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

    開催日時


    10:30

    受講料

    50,600円(税込)/人

    ※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

    ※銀行振込、コンビニ払い

    開催場所

    全国

    主催者

    キーワード

    半導体技術   洗浄技術

    ※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

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    10:30

    受講料

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    キーワード

    半導体技術   洗浄技術

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