ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎と実用例を解説

　 受講可能な形式：【会場受講】のみ 

■本セミナーでは、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール（RTR）NILについても説明し、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。さらに、メタサーフェスやAR/MRグラスでのNILの応用状況についても概説する。

　

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    セミナー趣旨

    ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。NILは、1995年にプリンストン大学のChou先生が提唱して今年で30周年となる。本講演では、歴史的な背景も説明しつつ、最新のメタサーフェスやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。NILは最先端の高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。

    本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。

    習得できる知識

    ・ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎
    ・NILにおける金型作製技術、転写樹脂選定、応用事例
    ・ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
    ・反射防止構造フィルムの量産例とその応用
    ・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス等

    セミナープログラム

    １．はじめに
    　1.1 ナノインプリントリソグラフィの歴史
    　1.2 ナノインプリントリソグラフィの現状

    ２．ナノインプリントの基礎
    　2.1 ナノインプリントの要素技術（金型、樹脂、装置等）
    　2.2 ナノインプリントの各種方式
    　2.3 ナノインプリントの位置づけ

    ３．ナノインプリントの応用技術
    　3.1 ナノトランスファープロセス
    　3.2 金属パターン転写

    ４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
    　4.1 RTR NILの基礎
    　4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
    　4.3 モスアイ構造の作製方法
    　4.4 モスアイ構造の転写方法
    　4.5 モスアイ構造の応用例

    ５．将来展望
    　5.1 メタサーフェス
    　5.2 AR/MR グラス

    6．まとめ

    □ 質疑応答 □

    セミナー講師

    東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科・教授　谷口 淳 氏

    【その他 活動等】
    応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長

    セミナー受講料

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    定価：本体45,000円＋税4,500円
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    ※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
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    受講について

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    キーワード

    高分子・樹脂加工／成形   光学技術   ナノマイクロシステム
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