半導体露光技術の発展、およびEUV露光装置の現状と将来展望

セミナー趣旨

半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ、パターン微細化に伴う半導体露光方式の進化の流れを、専門外の方々にもわかりやすく説明する。 次に、投影露光装置の構成、主要性能と要素性能の関係について述べ、露光装置についての定性的理解を深めてもらう。更に、解像度に対する投影光学系、照明光学系のパラメータと露光波長の寄与について数式を用いて詳しく説明し、専門の方には計算の仕方を、専門外の方には計算結果の意味するところを理解してもらう。そして、多層膜反射光学系を含むEUV露光装置とその関連技術の特徴、最新状況、今後の展望について説明する。最後に、露光装置によって形成される光学像強度分布からレジスト像への転写原理、レジスト材料の原理について述べる。

このような方におすすめ　 　
・半導体業界でのリソグラフィ技術の最新動向を知りたい方 　
・半導体製造プロセスに携わる技術者、若手技術者、新人エンジニア 　
・EUV露光技術の詳細を理解したい技術者や研究者 　
・半導体産業の未来と技術的課題に関心がある方 

受講対象・レベル

半導体製造プロセスのうち、リソグラフィ関連全般を原理的な視点から理解したい方（新人、若手技術者、マネジメント）

必要な予備知識

※予備知識は不要ですが、四則演算、三角関数、微積分、平均値と標準偏差、等の基礎知識は必要です。

習得できる知識

・半導体製造プロセスにおけるリソグラフィの位置づけ、半導体露光装置の歴史を理解できる。
・半導体露光装置の構成と性能 特に解像度の決定要因と部分的コヒーレンス理論を理解することができる。
・EUV露光装置の特徴を理解することができる。
・レジスト材料の原理を理解することができる

セミナープログラム

セミナー講師

セミナー受講料

49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 ) 
E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料

1名分無料適用条件
※2名様ともE-Mail案内登録が必須です。
　2名様以降の受講者は、申込み前にE-Mail案内登録をお済ませください。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（クレジットカード決済の場合は領収書）は代表者にS&T会員マイページにて発行します（PDF）
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

1名申込み： 受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円)
　定価：本体36,000円＋税3,600円
　E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円
　　※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
　　※他の割引は併用できません。

受講について

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アーカイブ配信　►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）

配布資料

• 製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
  ・Live配信受講者：お申込み時のご住所へ開催日の４～５日前に発送いたします。
  　　　　　　　　※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
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  　　　　　　　　　Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
  ・アーカイブ配信受講者：開催日を目安に発送。