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【中止】透明導電膜・透明酸化物半導体の基礎と応用〜種類・構造から成膜方法、電気/光学特性、最新動向まで〜
開催日 |
12:30 ~ 16:30 締めきりました |
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主催者 | 株式会社 情報機構 |
キーワード | 電子デバイス・部品 薄膜、表面、界面技術 無機材料 |
開催エリア | 東京都 |
開催場所 | 【大田区】大田区産業プラザ(PiO) |
交通 | 【京急】京急蒲田駅 |
有機エレクトロニクスやディスプレイ、タッチパネル、太陽電池ほか
様々な分野で重要な材料 “透明導電膜” を1日速習!
種々の透明導電膜の特性・構造などの基礎から製造方法、
表面・界面の物性、最新トピックスまでを解説します
セミナー講師
青山学院大学 大学院 理工学専攻 機能物質創成コース 教授 重里 有三 先生
【略歴】
1960年生まれ。旭硝子株式会社中央研究所研究員、米国ブラウン大学工学部物質工学科客員研究員等を経て1993年北海道大学大学院工学研究科(応用物理学専攻)にて論文博士を取得、工学博士。2000年4月より現職。機能性無機薄膜は情報テクノロジー(IT)、環境技術(ET)の根幹を支える基盤技術の一つである無機薄膜の合成と物性に関する研究に従事。2007年〜2012年日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会委員長。2015〜現在 日本材料学会(MRS-Japan)理事
セミナー受講料
1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円
*学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
セミナー趣旨
透明導電膜は、液晶、有機EL等のフラットパネルディスプレーやタッチパネルおよび太陽電池等の環境技術分野において極めて重要な材料であり、近年種々の注目を集めています。特に、ITO代替の透明電極材料の研究開発、新しい有機エレクトロニクス分野への透明電極の適用のための研究開発は、極めて重要であると考えられてきています。これらの透明導電膜やIGZO等の透明酸化物半導体薄膜の礎から応用、成膜方法に関する最新の研究開発成果等に関して総合的に解説します。
受講対象・レベル
・薄膜に関する企業の研究開発、製造のご担当の方。
・透明導電膜やその応用に関して研究・開発に携わっている方。
・本テーマに興味のある方なら、どなたでも受講可能です。
必要な予備知識
この分野に興味のある方なら、特に予備知識は必要ない。
習得できる知識
透明導電膜に関する基本的な知識のほぼ全て。
(種類、製法、構造、電気特性、光学特性、表面・界面の物性)
セミナープログラム
1.透明導電膜を含む機能性酸化物薄膜に関する基礎
1)様々な透明導電膜とその特性
−酸化インジウム系、酸化亜鉛系、
酸化錫系透明導電膜、アモルファス酸化インジウム−亜鉛透明導電膜
2)種々の透明導電材料に関する最新の話題
3)機能性酸化物薄膜に関する最新の話題
2.透明導電膜の成膜方法
1)スパッタ成膜法等、成膜プロセスの基礎
2)高速成膜に関する最新の話題
3)反応性スパッタリングの基礎と応用
3.新規透明導電材料の可能性
1)透明導電膜開発のストラテジー
2)3元系透明導電膜に関する最新の話題
4.酸化亜鉛系、酸化錫系透明導電膜、酸化物半導体薄膜の新しい展開
5.まとめと質疑応答(個別のご質問にも可能な限りお答えいたします。)