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<基礎から学ぶ> レジスト材料とリソグラフィ技術 ~レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた 技術革新、今後の展望および日本の半導体産業再生に向けて~
半導体用レジストの材料設計とその評価
二酸化炭素(CO2)、二硫化炭素(CS2)を原料とする高分子材料の合成技術と応用
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
高電圧化によるEVモータ/回路基板/樹脂材料の電気・熱的劣化機構と絶縁評価・対策技術
半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法
絶縁破壊・劣化の基礎、測定・劣化診断と高分子絶縁材料の高機能化
光学用透明樹脂の基礎と光学特性制御および高機能化
高感度化フォトレジスト材料の入門
開催日 |
13:30 ~ 17:00 締めきりました |
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主催者 | (株)AndTech (&Tech) |
キーワード | 高分子・樹脂材料 電子材料 |
開催エリア | 全国 |
開催場所 | ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です |
~化学増幅型レジストからメタルレジストまでの基礎から・ 材料の設計と開発・評価~
★高感度化フォトレジスト材料入門セミナー!
★化学増幅型レジストからメタルレジストまで、それらの基礎・ 材料設計・開発・評価まで幅広く解説!
セミナー講師
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
セミナー受講料
【1名の場合】39,600円(税込、資料作成費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。
セミナー趣旨
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化してきた。前半は、その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について、基礎的な原理を交えて解説する。続いて、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説し、レジスト材料の基礎的な評価方法から、新規なレジスト材料の開発方法について解説する。さらに後半では、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料(分子レジスト、非化学増幅型レジスト、メタルレジスト)について解説する。
【講演キーワード】
レジスト材料、ポジ型、ネガ型、極端紫外線レジスト、メタルレジスト、レジスト材料の高感度化
【講演のポイント】
レジスト材料の合成方法は、基本的な有機合成化学や高分子合成化学の理論と実験方法の組みあわせであり、特別な合成法は必要ない。どのような分子を設計すればよいのかを、使用するレジストシステムを理解すれば、一般艇な研究し設備があれば容易に新しいレジスト材料は合成可能である。合成したレジスト材料が、高性能になる理由を解説し、新規レジスト材料の分子設計指針について考察を加える。
習得できる知識
・レジストシステムとレジスト材料について
・化学増幅型レジストシステムについて
・極端紫外線(EUV)レジストについて
・メタルレジストについて
・最先端のレジスト材料の課題について
セミナープログラム
1.レジスト材料(基礎)
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型
2.ポジ型レジスト材料(基礎)
2.1 合成方法
2.2 評価方法
3.ネガ型レジスト材料(基礎)
3.1 合成方法
3.2 評価方法
4.高分子レジスト材料と低分子レジスト(基礎と応用)
4.1 合成方法
4.2 評価方法
5.EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例(基礎と応用)
6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)(応用と発展)
【質疑応答】