以下の類似セミナーへのお申込みをご検討ください。
量子ドットの技術動向とディスプレイへの応用
蛍光体開発者&ユーザー向け 技術と市場の最新トレンド
SiCパワー半導体の最新動向とSiC単結晶ウェハ製造の技術動向
半導体ウェハの欠陥制御と検出、評価技術
蛍光体の分子設計・合成法と最新技術動向・市場展望
ペロブスカイト太陽電池入門~高効率化・高耐久性化技術と今後の展望~
薄膜技術の基礎と応用(薄膜に関する基礎知識)
晶析の基礎と結晶品質制御技術
量子ドットの基礎知識と結晶成長およびデバイス応用
開催日 |
12:30 ~ 16:30 締めきりました |
---|---|
主催者 | (株)R&D支援センター |
キーワード | 半導体技術 |
開催エリア | 東京都 |
開催場所 | 【江東区】江東区文化センター |
交通 | 【地下鉄】東陽町駅 |
レーザー、太陽電池、ディスプレイへの応用が期待される半導体微粒子、量子ドットについて基礎から応用まで分かりやすく解説!
講師
国立大学法人電気通信大学 情報理工学研究科 基盤理工学専攻
教授 博士(工学) 山口 浩一 氏
【専門】
半導体工学、量子ナノ構造、光電子デバイス、結晶成長
【活動など】
H25年4月~:(社)電子情報技術産業協会(JEITA) 電子材料・デバイス技術専門委員会委員
H25年4月~H27年3月:同専門委員会 量子ドット利用デバイス技術分科会委員長
H27年4月~H29年3月:同専門委員会 量子効果利用デバイス技術分科会委員長
受講料
R&D会員登録していただいた場合、通常1名様申込で49,980円(税込)から
★1名で申込の場合、47,250円(税込)へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,980円(2人目無料)です。
(まだR&D会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
受講対象・レベル
電子・光デバイスメーカー、ディスプレイメーカー、情報通信機器メーカーの研究開発・生産製造に携わる方(初心者から中級者まで)
習得できる知識
・量子ドットの基礎物性
・量子ドットの結晶成長技術
・量子ドットの測定評価技術
・量子ドットを利用したデバイスの基本原理
趣旨
半導体量子ドットの作製技術の進展により、半導体レーザ、LED、太陽電池、単一光子源、ディスプレイ、メモリなどへの応用開発に高い期待が寄せられている。しかし、それら量子ドットデバイスの実用化および期待される高いパフォーマンスの実現にはまだ多くの課題も残されている。
本セミナーでは、量子ドットの作製(自己形成法を中心)、量子ドットの測定評価、そして量子ドットのデバイス応用についての基礎理論の学習および実践的な技術講習の両面から、分かりやすく解説する。量子ドットテクノロジーの研究開発の現状と今後の課題についても解説し、今後の展開に向けた取り組みの一助となれば幸いです。
プログラム
1.量子ドットの基礎
1-1 半導体ナノ構造の展開
1-2 半導体量子ドット構造
2.量子ドットの自己形成法
2-1 半導体エピタキシャル成長技術の進展
2-2 量子ドットの自己形成法の基礎
2-3 量子ドットの自己形成過程
3.量子ドット構造の評価解析法
3-1 走査型プローブ顕微鏡
3-2 走査電子顕微鏡
3-3 反射高速電子線回折
3-4 透過電子顕微鏡
3-5 その他の測定解析法
4. 自己形成量子ドットの構造制御
4-1 量子ドットの高均一化
4-2 量子ドットの発光波長制御
4-3 量子ドットの高密度化
4-4 量子ドットの低密度化
4-5 量子ドットの配列・位置制御
5.自己形成量子ドットのデバイス応用
5-1 量子ドットレーザへの応用
5-2 量子ドット太陽電池への応用
5-3 量子ドット単一光子発生器への応用
5-4 その他の応用例
6. まとめ、今後の課題と展望
【質疑応答・名刺交換】
キーワード 量子ドット,次世代,蛍光体,太陽光発電,半導体,デバイス,Quantum,dot,セミナー