表面・界面の考え方と分析の基礎と実践応用テクニック、ノウハウ

セミナー趣旨

  表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではありません。これは言い方を換えると、現代は表面、界面に支配されているとも言えます。そのため、分析手法一つにしても多種多様なものが開発され、利用されています。しかし、一方で表面や、特に界面はまだ未解明な部分も多く、多様な分析方法の選択・活用、そして、表面・界面の姿を明らかにすることは容易ではありません。
  本講では、表面、界面の基礎から、表面分析評価を中心にして、その姿を明らかにして利用するためのアプローチについて、技術的テクニック、コツやノウハウから、考え方、実践まで事例を交えて解説します。

受講対象・レベル

・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
・若手から中堅を中心とした担当者
・部署マネジメント、部下を育成・教育する管理者、マネージャー
＊同業者の方（コンサルタント業等）・及び個人でのお申込みの場合、受講をお断りする場合がございますので、
   予めご了承下さい。

習得できる知識

・表面分析の基礎
・表面分析の考え方と活用法
・各種表面分析手法の使い方
・表面、界面の可視化法
・研究開発、問題解決へのフィードバック

セミナープログラム

1 【表面に支配される現代社会】
　1.1 膜・界面、そして、現代技術を支配する表面
　1.2 表面・界面の重要性
2 【表面とは】
　2.1 表面（薄膜）とは？
　2.2 表面のかかわる代表的事象
　2.3 表面の要素
　2.4 表面における現象
　2.5 代表的な表面処理
3 【界面とは】
　3.1 界面における現象
　3.2 多層膜による界面形成
　3.3 薄膜化による界面の変化
4 【表面・界面を支配するもの】
　4.1 界面形成
　4.2 界面形成を支配する接着
　4.3 界面を形成する力
　4.4 表面・界面形成を支配するもの
　4.5 表面・界面形成因子と評価法
　4.6 表面を支配するには
5 【表面分析成功のキーポイント】
6 【サンプルの取り扱い】
7 【代表的表面分析手法】
8 【表面分析の分類 】
　8.1 表面分析に用いる主な手法と選び方
　8.2 表面・微小部の代表的分析手法
　8.3 手法の選択
9 【接触角測定法】
10 【X線光電子分光法（ＸＰＳ、ＥＳＣＡ）】
　10.1 XPSの原理
　10.2 XPSの検出深さ
　10.3 装置構成例
　10.4 XPSの特徴？
　10.5 ワイドスキャン（サーベイスキャン）
　10.6 ナロースキャン（代表的な元素）
　10.7 元素同定
　10.8 化学状態の同定
　10.9 角度変化測定による深さ方向分析
　10.10 チャージアップの影響と対応
　10.11 化学状態による違い
　10.12 チャージアップへの工夫
　10.13 イオンエッチングダメージ
　10.14 エッチング条件と効果
　10.15 エッチング条件とスパッタレート
　10.16 イオンエッチングによるクロスコンタミ
　10.17 ちょっと便利なサイトやソフト
　10.18 ハイブリッド分析
11 【オージェ電子分光法（AES）】
　11.1 微小領域の元素分析手法
　11.2 ＡＥＳの原理
　11.3 装置構成例
　11.4 ＡＥＳ測定例
　11.5 界面拡散の分析１
　11.6 AESによる状態分析例
　11.7 チャージアップ抑制
　11.8 絶縁体上の異物
　11.9 化学状態マッピング
　11.10 XPSとAESの手法の比較
12 【X線マイクロアナライザ（EPMA）】
　12.1 EPMAの原理
　12.2 元素分布分析（被着体金属基板の断面）
　12.3 積層膜の分析例
13 【化学構造を知る】
14 【フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）】
　14.1 赤外分光法（IR）の原理
　14.2 FT-IRの長所・短所
　14.3 測定法
　14.4 周辺環境の影響
　14.5 主な吸収帯
　14.6 赤外分光の構造敏感性
　14.7 指紋領域の利用
　14.8 系統解析
　14.9 帰属の考え方
　14.10 全反射法（ATR法）
　14.11 ATR法と検出深さ
　14.12 ATR法における注意点
　14.13 In-situ　FT－IR
15 【飛行時間型二次イオン質量分析法（TOF-SIMS）】
　15.1 SIMSの概念
　15.2 D-SIMSに用いられる質量分析法
　15.3 TOF-SIMS装置の構成
　15.4 TOF-SIMSの概要
　15.5 TOF-MSの原理
　15.6 TOF-SIMSによる化学構造解析
16 【グロー放電分析（GD）】
17 【形態を知る】
18 【ＳＥＭ、ＴＥＭ】
　18.1 表面形状と組成
　18.2 SEM－EDS組成分析
　18.3 試験前後の比較
　18.4 SEM観察例　
　18.5 試料作製法の比較
19 【走査型プローブ顕微鏡（SPM）】
　19.1 SPMとは
　19.2 主な走査型プローブ顕微鏡
　19.3 形態観察におけるAFMの位置づけ
　19.4 観察例
　19.5 位相イメージングの例
　19.6 位相像
20 【界面分析】
21 【界面評価の重要性と課題】
　21.1 界面の例
　21.2 界面の形成
　21.3 界面の分類
　21.4 界面における課題
　21.5 界面分析の重要性
　21.6 一般的深さ方向分析
　21.7 従来法と問題点
　21.8 化学増幅型レジストのD-SIMS分析
　21.9 精密斜め切削法
　21.10 斜面角度と深さ方向分解能
　21.11 傾斜面の例
　21.12 新しいアプローチ
22 【解析の実例】
23 【ＵＶ照射による化学構造の評価】
24 【表面構造変化の解析（XPS）】
25 【気相化学修飾法】
26 【化学修飾法を用いたTOFイメージング】
27 【ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析】
28 【ＰＩ／Ｃu／Ｓi界面の解析】
29 【まとめ】
30 質疑

セミナー講師

奥村 治樹 先生   ジャパン・リサーチ・ラボ 代表／兼 大阪産業大学 情報システム学科 非常勤講師
京都産業２１ 相談員／滋賀県産業支援プラザ 相談員／知財管理技能士 博士（工学） 　

■講師紹介
大手化学メーカー勤務後大手電機メーカー、化学系ベンチャー企業を経て現職
現在は、ベンチャーから上場企業まで様々な業種の顧問や技術コンサルタントとして、研究開発、製造における
課題解決、戦略策定から人事研修などの人材育成などを行っている（詳細はhttp://analysis.ikaduchi.com）。
また、学会等での招待講演や国プロにおけるキャリア形成プログラムの講師なども行っている。

セミナー受講料

1名47,300円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円
＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

【セミナー受講特典コンサルティング】
  セミナーに受講して名刺交換をさせて頂いた方への特典サービスとして、初回限定で限定特別料金にてコンサルティングをご利用いただけます。技術的な相談はもちろん、戦略相談、オンサイトセミナーなど、依頼条件を満たす限り原則として実施内容、方法に制限はありません。
  技術コンサルティングには興味があるが利用したことがないので、どのようなものか良くわからず正式依頼に踏み切れない、決裁を取るために一度ディスカッションしたいという方は、是非この機会に、JRLのコンサルティングを御体験ください。限定特典ではありますが、必ず満足のいただける内容でお応えします。
＜依頼条件＞
・初回１回のみ
・セミナー実施日より３カ月以内に依頼が成立
・費用：内容によらず定額の限定特別料金

受講について

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

配布資料・講師への質問等について

• 配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
  お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
  お申込みは4営業日前までを推奨します。
  それ以降でもお申込みはお受けしておりますが（開催1営業日前の12:00まで）、
  テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。
• 本セミナーでは事前質問は受付しておりません。
  当日、セミナー終了後の質疑の時間に、可能な範囲でご質問に対応致します。
  （全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。）
• 本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、
  無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。

下記ご確認の上、お申込み下さい

• PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
• ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております（20Mbbs以上の回線をご用意下さい）。
  各ご利用ツール別の動作確認の上、お申し込み下さい。
• 開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。

Zoomを使用したオンラインセミナーとなります

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  　対応ブラウザーについて(公式) ;
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• 本セミナーでは、受講者のカメラは原則 on にてお願いを致しております。