＜半導体製造において必須：プラズマプロセスの基礎講座＞プラズマ生成の基礎・現象の理解と半導体微細加工・エッチングプロセスの基礎

半導体微細加工において重要なパラメータ：壁へのイオンや化学活性種のフラックス量とは？

半導体プロセスに用いられるプラズマ源、反応性イオンエッチングの表面現象を理解する！

・ さまざまな表面化学反応を低温で実現できるプラズマプロセス！
・ プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象とは？
・ 壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているか？
・ 近年の動向である二周波重畳プラズマの必要性と課題についても解説！

セミナー講師

名古屋大学工学研究科 電子工学専攻 教授　豊田 浩孝　氏

セミナー受講料

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49,500円( E-mail案内登録価格46,970円 )
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配布資料

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セミナー趣旨

習得できる知識

プラズマの基礎、エッチングプロセス実現のためのプラズマ制御の基本指針

セミナープログラム