フォトレジスト材料の基礎と開発・設計指針~合成・評価法からEUV用レジスト材料開発まで~<Zoomによるオンラインセミナー>
開催日 |
12:30 ~ 16:30 締めきりました |
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主催者 | 株式会社 情報機構 |
キーワード | 高分子・樹脂材料 半導体技術 電子デバイス・部品 |
開催エリア | 全国 |
開催場所 | お好きな場所で受講が可能 |
最新型のフォトレジスト材料動向もふまえた
材料開発のポイントについて講義!
セミナー講師
関西大学 化学生命工学部 教授 博士(工学) 工藤 宏人 先生
セミナー受講料
【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴なし)】1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円
【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴あり)】1名46,200円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,200円
*学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
受講について
※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。
配布資料・講師への質問等について
- 配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
(開催1週前~前日までには送付致します)。
※準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。) - 当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。) - 本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、
無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
下記ご確認の上、お申込み下さい
- PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
- ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
各ご利用ツール別の動作確認の上、お申し込み下さい。 - 開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります
- ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
→ 確認はこちら
※Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。 - Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です。
※一部のブラウザは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります。
必ずテストサイトからチェック下さい。
対応ブラウザーについて(公式) ;
「コンピューターのオーディオに参加」に対応してないものは音声が聞こえません。
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です
- 開催5営業日以内に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
- 視聴可能期間は配信開始から1週間です。
セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
尚、閲覧用のURLはメールにてご連絡致します。
※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
(見逃し視聴有り)の方の受講料は(見逃し視聴無し)の受講料に準じますので、ご了承下さい。
→こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」
セミナー趣旨
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。本セミナーでは、その進化の変遷に沿って、高分子や低分子を用いたレジスト材料開発のポイントについて解説する。
さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、特に最新のレジスト材料であるEUVレジスト材料の開発方法について詳しく解説する。
受講対象・レベル
UV硬化樹脂材料の開発、ナノインプリント材料の開発、レジスト材料の開発に携わっている方
習得できる知識
レジスト材料の評価方法と開発方法
セミナープログラム
1.レジスト材料について
a) 開発の歴史(ムーアの法則について)
b) 原理(レジスト材料として求められる性能について)
c) 開発例
・高分子を用いたレジスト材料
・低分子を用いたレジスト材料
d) 化学増幅型システムの利点と弱点
2.ポジ型レジスト材料
a) 原理
b) 合成例
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料
3.ネガ型レジスト材料
a) 原理
b) 合成例
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料
4.分子レジスト材料
a) 原理
b) 合成例
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料
5.レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
a) レジスト特性の評価方法
・溶解性、成膜性、耐熱性
・レジスト膜の安定性
・レジスト感度特性
・耐エッチング性
b) レジストの分子設計方法
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料
・高感度化設計
・高解像度化設計
・低ラフネス化設計
6.最新型レジスト材料の開発方法
・化学増幅型レジストと非化学増幅型レジスト
7.EUV用レジスト材料の開発方法
a) EUV用レジスト材料の評価方法
b) EUV用メタルレジスト
c) EUV用分子レジスト
d) EUV用非化学増幅型レジスト
<質疑応答>