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<基礎から学ぶ> レジスト材料とリソグラフィ技術 ~レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた 技術革新、今後の展望および日本の半導体産業再生に向けて~
レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策
半導体用レジストの材料設計とその評価
半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
半導体製造プロセス入門講座~基礎とトラブル対策~
半導体の発熱メカニズムおよび熱設計・シミュレーション技術
ナノインプリントの基礎と製品応用・最新動向
【中止】レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策
開催日 |
10:30 ~ 16:30 締めきりました |
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主催者 | (株)R&D支援センター |
キーワード | 電子デバイス・部品 高分子・樹脂材料 半導体技術 |
開催エリア | 東京都 |
開催場所 | 【江東区】カメリアプラザ(商工情報センター) |
交通 | 【JR・東武】亀戸駅 |
レジストの高性能化、評価技術、最近のリソグラフィー技術など
必須基礎知識からリソグラフィープロセスの最適化方法まで詳解
セミナー講師
大阪市立大学 大学院工学研究所 客員教授 工学博士 花畑 誠 氏
セミナー受講料
55,000円(税込・資料付)
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受講対象・レベル
(1)レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
(2)半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売
上記に従事されている方々およびリーダークラスの方々
習得できる知識
・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
・レジストの品質管理手法
・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
・リソグラフィープロセスの最適化方法
・リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
・素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力
セミナープログラム
1.リソグラフィの基礎
(1)リソグラフィーとは
(2)露光システムとリソグラフィー装置の変遷
2.レジスト材料とその高性能化
(1)パターンニング用レジスト材料(総論)
(2)G線、i線用レジスト
(3)KrF用レジスト
(4)ArFおよびArF液浸用レジスト
(5)EUV用レジスト
3.レジスト製造技術と品質管理
(1)レジスト製造技術
(2)レジストの性能安定化技術
(3)品質管理-その項目と方法
4.レジスト材料の評価技術
(1)性能評価
(2)品質評価
(3)シミュレーション技術
5.レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
(1)種々のトラブルとその解決策(材料面から)
(2)種々のトラブルとその解決策(プロセス面から)
(3)顧客対応の方法
6.20nm以下のリソグラフィー技術
(1)ダブルパターンニング技術
(2)DSA技術とその材料
(3)ナノインプリント技術
(4)今後のリソグラフィー技術
【質疑応答・名刺交換】